[发明专利]蚀刻液及其制备方法

说明书

本发明属于蚀刻技术领域，尤其涉及一种蚀刻液及其制备方法。本发明提供的蚀刻液包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。该蚀刻液可实现对金属材料的蚀刻，反应条件温和，速度可控，蚀刻精度高，且蚀刻表面光滑平整，适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件，保证产品质量。

技术领域

本发明属于蚀刻技术领域，尤其涉及一种蚀刻液及其制备方法。

背景技术

在金属蚀刻中，业界主要采用湿蚀刻法以及例如离子蚀刻、等离子蚀刻等干蚀刻法。与干蚀刻法相比，湿蚀刻法使用的化学试剂价格经济，且不需要昂贵设备，蚀刻成本低；而且，湿蚀刻法还可对具有复杂外形和三维结构的金属器件进行蚀刻处理，使用范围广，操作方便。此外，蚀刻掉的金属材料还能够从废蚀刻液中回收，有利于金属资源的可循环利用，绿色环保经济。因此，湿蚀刻法常被广泛用于蚀刻各种金属器件。

目前，市场上的蚀刻液的蚀刻剂主要为盐酸、硝酸、磷酸等酸以及铵盐、铁盐等盐的组合，常用于厚金属板的装饰性蚀刻或者印刷电路上铝膜的镂空性腐蚀，其反应过于剧烈，难以控制蚀刻速度，蚀刻精度低，不适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件。

发明内容

本发明的目的在于提供一种蚀刻液，以及提供一种蚀刻液的制备方法，旨在解决现有蚀刻液主要适用于厚金属板的装饰性蚀刻，或者适用于印刷电路上铝膜的镂空性腐蚀，反应剧烈，难以控制蚀刻程度，不适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件的问题。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

第一方面，本发明实施例提供了一种蚀刻液，包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；

所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；

所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。

第二方面，本发明实施例提供了一种蚀刻液的制备方法，包括以下步骤：

提供蚀刻剂，所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐，所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐，所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种；

将所述蚀刻剂溶解形成溶液，并使得所述蚀刻剂的浓度大于或等于5g/L。

本发明提供的蚀刻液，以浓度大于或等于5g/L的酸性盐或碱性盐为蚀刻剂，酸性盐选为磷酸二氢盐和硫酸氢盐等，这些酸性盐可在溶液中电离或水解形成氢离子，通过氢离子与金属材料反应来蚀刻金属材料；碱性盐选为碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐等，这些碱性盐可在溶剂中水解形成氢氧根离子，通过氢氧根离子与金属材料反应来蚀刻金属材料。经实验测试，当上述蚀刻剂的浓度在5g/L以上时，可实现对金属材料的蚀刻，反应条件温和，速度可控，蚀刻精度高，且蚀刻表面光滑平整，适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件，保证产品质量。

本发明提供的蚀刻液的制备方法，将所述蚀刻剂溶解形成溶液，并使得蚀刻剂的浓度大于或等于5g/L，方法简单，操作简便，易于规模化生产。

具体实施方式

为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

一种蚀刻液，包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；

酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；