[发明专利]蚀刻液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010773238.3 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN111893488A 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 刘兆晶;孙朋;罗昌杰;魏伟;王志安 申请(专利权)人: 深圳市乾行达科技有限公司
主分类号: C23F1/16 分类号: C23F1/16;C23F1/32
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 张杨梅
地址: 518000 广东省深圳市宝安区西乡街道凤*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种蚀刻液,其特征在于,包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂,所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐;

所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐;

所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述酸性盐选自磷酸二氢钠、磷酸二氢钾、磷酸二氢锂、硫酸氢钠、硫酸氢钾和硫酸氢锂中的至少一种;和/或

所述碱性盐选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢锂、亚硫酸钠、亚硫酸锂、亚硫酸钾、乙酸锂、乙酸钠、乙酸钾、磷酸钠、磷酸钾、磷酸锂、次氯酸锂、次氯酸钠和次氯酸钾中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述蚀刻剂在所述蚀刻液中的浓度为5-300g/L。

4.根据权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述蚀刻液用于蚀刻两性金属;和/或

所述蚀刻液用于蚀刻厚度等于或小于0.1mm的金属箔片。

5.根据权利要求4所述的蚀刻液,其特征在于,所述两性金属选自铝金属或铝合金。

6.根据权利要求1至5任一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述蚀刻液还包含有:浓度为0.5-5g/L的表面活性剂,以及浓度为0.1-5g/L的缓蚀剂。

7.根据权利要求6所述的蚀刻液,其特征在于,所述表面活性剂选自硬脂酸、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基醇酰胺、三乙醇胺、苯扎氯铵中的至少一种;和/或

所述缓蚀剂选自铬酸钠、亚硝酸钠、硼酸钠、六次甲基四胺、乙二胺、三乙醇胺和十七酰胺中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的蚀刻液,其特征在于,所述蚀刻液包括以下浓度组分:

磷酸二氢盐20-100g/L;

表面活化剂0.5-5g/L;

缓蚀剂0.1-2g/L。

9.根据权利要求1至5任一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述蚀刻液的工作温度为20℃-50℃。

10.一种蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供蚀刻剂,所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐,所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐,所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种;

将所述蚀刻剂溶解形成溶液,并使得所述蚀刻剂的浓度大于或等于5g/L。

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