[发明专利]真空除静电系统

说明书

本发明提供了一种真空除静电系统，用于消除真空作业腔室中的静电，其包括除静电装置，与真空作业腔室密封连接，所述除静电装置包括真空光源，所述真空光源产生的光线直接照射所述真空作业腔室内并在其中生成离子；自动遮挡装置，与真空作业腔室密封连接，所述自动遮挡装置包括遮光部及驱动机构，所述遮光部设于光线形成的光路上，所述驱动机构自动控制所述遮光部将光路打开或关闭。如此设置，可以自动根据产品位置选择打开或关闭所述遮光部，防止除静电的光线直接照射产品的表面造成损伤。

技术领域

本发明涉及半导体及显示面板生产领域，尤其涉及一种真空除静电系统。

背景技术

目前，在半导体及显示面板生产过程中，一般会涉及到芯片或基板的传送和处理过程。例如，基板的传送出过程中其表面可能积聚电荷，从而导致基板的电极化，如此可能增加基板损坏的风险。因此，有必要保护基板免受可能由静电放电而引起的损坏。

现有技术中通常采用离子中和的方法消除静电，即在工作环境中用静电消除装置，提供一个等电位的工作区域。静电消除装置一般采用高压放电针或X射线管。其中，高压放电针采用电晕放电，生产大量的正负离子电荷，中和对象物体所带的电荷，根据对象物体表面所带的正负电荷的不同，而产品相应的电荷，已达到除静电的目的。其具有需要风源、易产生微细颗粒灰尘、只能解决局部的静电消除等问题。X射线管静电消除装置通过直流电的升压技术给X射线管的阳极提供直流高压电，促使X射线管内灯丝周围的电子云高速撞击阳极靶，从而产生特定波长的X射线。该特定波长的X射线，通过空气时，可使空气分子分解为正负离子，进而与物体表面的静电产生中和效应，达到消除静电的目的。但是X射线管的焦点只能集中于一点，因此需要将其焦点集中于基板上才可以起到效果。

上述两种装置只能应用于空气环境中而不能应用于真空环境，如真空LCD制造设备，因此其应用范围受到一定的限制。此外，考虑到基板的尺寸，利用现有的辐射源难以在大面积基板上进行电荷的中和。

现有的真空除静电方式为真空紫外辐射(VUV)，该方式旨在通过在真空环境中直接离子化剩余的分子来消隐静电电荷。不过，该方式虽然可以将制程中的基板的表面电荷中和，但是紫外辐射产生的能量同样会对基板造成一定的损害，进而会对后续显示器的分辨率造成影响。

因此，有必要设计一种真空除静电系统，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种防止产品损伤的真空除静电系统。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：一种真空除静电系统，用于消除真空作业腔室中的静电，其包括：

除静电装置，与真空作业腔室密封连接，所述除静电装置包括真空光源，所述真空光源产生的光线直接照射所述真空作业腔室内并在其中生成离子；

自动遮挡装置，与真空作业腔室密封连接，所述自动遮挡装置包括遮光部及驱动机构，所述遮光部设于光线形成的光路上，所述驱动机构自动控制所述遮光部将光路打开或关闭。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述驱动机构包括固定座、可相对于固定座转动的轴部、将轴部与固定座密封连接的密封部，所述轴部的一端突伸出所述固定座，所述遮光部设于所述轴部的一端并在所述轴部的带动下转动。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述固定座包括相互连接的气缸座及密封座，所述轴部包括气缸轴及与所述气缸轴同轴连接的输出轴，所述输出轴的一端突伸出所述密封座，所述遮光部安装于输出轴的一端。

作为本发明进一步改进的技术方案，所述驱动机构包括气缸组件及密封组件，所述气缸组件包括气缸座及气缸轴，所述密封组件包括密封座、输出轴及设于所述输出轴与密封座之间的密封部，所述输出轴与气缸轴同轴连接，所述输出轴的一端突伸出所述密封座，所述遮光部安装于输出轴的一端。