[发明专利]一种离子注入机的水冷式离子输送管在审
| 申请号: | 202010752451.6 | 申请日: | 2020-07-30 |
| 公开(公告)号: | CN111863574A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
| 发明(设计)人: | 魏运秀 | 申请(专利权)人: | 赣州市业润自动化设备有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/16 | 分类号: | H01J37/16;H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 341003 江西省赣州市赣州经济开发*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 离子 注入 水冷 输送 | ||
本发明公开了一种离子注入机的水冷式离子输送管,包括外管、内管和两个管接头,外管包括一体成型的第一弧形管和分别设置在第一弧形管两端的两个第一直管;内管包括一体成型的第二弧形管和分别设置在第二弧形管两端的两个第二直管;管接头成型有直径依次减小的第一插孔、中间孔、第二插孔和通孔,管接头的外壁上成型有与中间孔相通的进出水孔;第一直管插套并固定在第一插孔内,第二直管插套并固定在第二插孔内;外管和内管形成的冷却腔的两端分别与两个管接头的中间孔相通。本发明将输送管设置成内管和外管,通过设置在内管和外管之间的冷却腔对内管进行冷却,可有效提高输送管的使用寿命并降低对其他机件的影响。
技术领域
本发明涉及半导体生产技术领域,具体涉及一种离子注入机的水冷式离子输送管。
背景技术
在半导体生产工艺中,主流的杂质掺杂技术都采用离子注入技术,一般采用离子注入机实现离子注入技术。这种方法是由离子源产生等离子体,再通过质谱分析将所需的离子组分提取出来,对离子加速形成具有一定速度的离子束,并注入到半导体基片中,因此离子注入机是半导体生产工艺中十分常用的设备。质量分析器是离子注入机的核心部件,它是依据不同方式将离子源中生成的样品离子按质荷比的大小分开的仪器,可以将所需要的杂质离子从混合的离子束中分离出来。在离子源与质量分析器之间,即质量分析器的前端连接有用于传输离子束的管道,其中单聚焦质量分析器与离子源之间的管道为具有一定半径的圆弧型管道,由于输送管长时间受到高温、高速的离子束的冲击,使输送管的温度长期处于高温状态,不仅影响输送管的使用寿命,同时影响离子注入机其他机件的正常工作。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种离子注入机的水冷式离子输送管,它将输送管设置成内管和外管,通过设置在内管和外管之间的冷却腔对内管进行冷却,可有效提高输送管的使用寿命并降低对其他机件的影响。
本发明解决所述技术问题的方案是:
一种离子注入机的水冷式离子输送管,包括外管、内管和两个管接头,所述外管包括一体成型的第一弧形管和分别设置在第一弧形管两端的两个第一直管;
所述内管包括一体成型的第二弧形管和分别设置在第二弧形管两端的两个第二直管;
所述管接头成型有直径依次减小的第一插孔、中间孔、第二插孔和通孔,管接头的外壁上成型有与中间孔相通的进出水孔;
所述第一直管插套并固定在第一插孔内,第二直管插套并固定在第二插孔内;所述外管和内管形成的冷却腔的两端分别与两个管接头的中间孔相通。
所述冷却腔内设有螺旋翅片,螺旋翅片的内壁固定在第二弧形管的外壁上,螺旋翅片的外壁与第一弧形管的内壁之间留有间隙。
所述第二直管的内径小于等于通孔的内径。
所述第一直管靠近第一弧形管的端部成型有第一凸环,所述管接头靠近第一弧形管的端部成型有第二凸环,第一凸环和第二凸环通过多个螺钉固定连接。
所述管接头上成型有连接螺柱。
本发明的突出效果是:与现有技术相比,其将输送管设置成内管和外管,通过设置在内管和外管之间的冷却腔对内管进行冷却,可有效提高输送管的使用寿命并降低对其他机件的影响。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为图1关于A-A的剖视图;
图3为本发明的管接头的半剖示意图。
具体实施方式
实施例,见如图1至图3所示,一种离子注入机的水冷式离子输送管,包括外管1、内管2和两个管接头3,所述外管1包括一体成型的第一弧形管11和分别设置在第一弧形管11两端的两个第一直管12;
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