[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法

说明书

本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。该光学装置具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持第1光学元件及第2光学元件；气体供给部，朝向设置于保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由气体供给部供给的气体，在该光学装置中，在第1光学元件和第2光学元件的排列方向上并排地配置气体排出部。

技术领域

本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。

背景技术

已知在使用透镜、反射镜等光学元件的光学装置中，由于光学元件、光路中的空间的温度变化，可能对光学装置的光学性能造成影响。这可能由于光学元件的面形状的变化、光学元件的保持部中的热变形、空气的折射率变化而产生。

作为诸如上述的光学元件、光路中的空间的温度变化的一个主要原因，可以举出入射到光学元件的光。光在透过光学元件时、在光学元件中反射时，光的一部分被光学元件吸收，从而产生热。产生的热的一部分被传递到光学元件的保持部、光学元件的周围的空间。特别地，在保持部的附近存在光路的情况下，伴随保持部的温度上升，发生自然对流，有时热从保持部传递到包括光路的空间。由此，光路中的气体的折射率变化，可能导致光学装置的光学性能的降低。

为了抑制光学装置中的光学性能的降低，已知对光学元件及其附近的空间进行冷却的冷却机构。日本特开2018-91919号公报公开了对2个光学元件之间的空间供给以及排出用于温度调节的气体的气体供给机构。

在日本特开2018-91919号公报的气体供给机构中，在2个光学元件的上下方向上配置有气体供给机构，所以根据到达各光学元件的光的光路，存在光被气体供给机构遮光的可能性。通过研究气体供给机构的配置，能够使到达光学元件的光被遮光的风险降低。

本发明的目的在于提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。

发明内容

本发明的光学装置的特征在于，具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持所述第1光学元件及所述第2光学元件；气体供给部，朝向设置于所述保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由所述气体供给部供给的气体，所述气体排出部在所述第1光学元件和所述第2光学元件的排列方向上并排地配置。

附图说明

图1是示出曝光装置的整体结构的概略图。

图2是示出实施例1的光学装置的结构的图。

图3是从Y轴方向观察光学装置的图。

图4是示出实施例2的光学装置的结构的图。

图5是示出实施例3的光学装置的结构的图。

图6是示出作为比较例的光学装置的结构的图。

具体实施方式

以下参考附图说明本发明的优选的实施方式。此外，在各图中，对相同的部件附加相同的参考编号，省略重复的说明。

图1是示出包括搭载有本发明的光学装置的投影光学系统PO的曝光装置1的结构的概略图。曝光装置1被用于作为半导体设备、液晶显示设备等设备的制造工序的光刻工序。在曝光装置1中，使用光强度强的曝光光L将掩模M的图案投影到基板上的感光材料，所以曝光装置1中包括的透镜、反射镜等光学元件由于吸收曝光光L而易于被加热。

曝光装置1包括照明光学系统IL、投影光学系统PO、能够保持并移动掩模M的掩模载置台MS以及能够保持并移动基板W的基板载置台WS。另外，曝光装置1包括控制对基板W的曝光处理的控制部C，进行对基板上的抗蚀剂膜(感光剂)经由投影光学系统PO投影掩模M的图案而形成潜像(潜像图案)的曝光处理。