[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种光学装置，其特征在于，具备：

第1光学元件及第2光学元件；

保持部，保持所述第1光学元件及所述第2光学元件；

气体供给部，朝向设置于所述保持部的流路供给控制温度后的气体；以及

气体排出部，排出由所述气体供给部供给的气体，

所述气体排出部在所述第1光学元件和所述第2光学元件的排列方向上并排地配置。

2.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述气体排出部包括从所述保持部的内部的空间对气体进行排气的排气机构。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述气体排出部设置于入射到所述第1光学元件及所述第2光学元件的光路外。

4.根据权利要求1所述的光学装置，还具有将所述保持部的内部的空间和外部的空间隔开的部件，

所述气体排出部经由设置于所述部件的开口排出气体。

5.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述保持部具有将所述保持部的内部的空间和外部的空间连通的开口，

与由所述气体排出部排出气体相对应地，经由设置于所述保持部的开口从所述保持部的外部的空间对内部的空间供给气体。

6.根据权利要求5所述的光学装置，其中，

由所述气体排出部排出的气体的流量比由所述气体供给部供给的气体的流量多。

7.根据权利要求6所述的光学装置，其中，

从所述开口供给与由所述气体排出部排出的气体的流量和由所述气体供给部供给的气体的流量的差分相当的量的气体。

8.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述气体排出部排出通过所述第1光学元件与所述第2光学元件之间的空间后的气体，该气体是由所述气体供给部供给的气体。

9.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述第1光学元件是透镜，所述第2光学元件是对透过所述第1光学元件后的光进行反射的反射镜。

10.根据权利要求9所述的光学装置，其中，

所述气体排出部相对所述反射镜配置于与所述透镜相反的一侧。

11.一种投影光学系统，具备第1凹反射面和第2凹反射面以及权利要求1至10中的任意一项所述的光学装置，其中，

来自物体面的光按照所述第1凹反射面、所述光学装置中包括的反射镜的凸反射面、所述第2凹反射面的顺序反射并在像面上成像。

12.一种曝光装置，其特征在于，具有：

照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及

权利要求11所述的投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板。

13.一种物品的制造方法，其特征在于，包括：

形成工序，使用权利要求12所述的曝光装置在基板上形成图案；以及

加工工序，对在所述形成工序中形成图案后的所述基板进行加工，

根据在所述加工工序中加工后的所述基板来制造物品。