[发明专利]一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备

说明书

本发明涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备，包括：真空镀膜室；预热空间，内部具有加热单元；真空镀膜室的第一外壁与预热空间的内壁贴合设置，第一外壁上间隔设置有第一敞口端，内壁上间隔设置有第二敞口端；真空镀膜室转动设置，当第一敞口端和第二敞口端错位设置时，第一真空腔室和预热腔室形成两独立的封闭空间，否则第一真空腔室和预热腔室形成联通的密闭空间；还包括移动单元，在第一真空腔室和预热腔室之间移动工件。本发明中通过预热空间的设置，使得工件在进入真空镀膜室之前获得预热，且预热的过程中通过内壁与真空镀膜室的第一外壁可实现导热，保温均热效果良好，可保证镀膜的图案和尺寸得到控制。

技术领域

本发明涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备。

背景技术

真空蒸发镀膜法简称真空蒸镀，是在真空室中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出形成蒸汽流，入射到基片表面凝结形成固态薄膜的方法。利用这种方法制造薄膜已有几十年的历史，用途十分广泛。但在真空蒸发镀膜中影响镀膜质量的因素有很多，其中基片的温度均匀性是其中的影响因素之一。

现有的镀膜设备中，为了降低设备的制造难度，不会在设备中设置针对基片的预热结构，在镀膜前基片的温度较低，此情况会影响镀膜的图案和尺寸。

鉴于上述现有缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备，使其更具有实用性。

发明内容

本发明中提供一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备，从而有效解决背景技术中的问题。

为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案是：

一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备，包括：

真空镀膜室，提供用于镀膜的第一真空腔室；

预热空间，围绕所述真空镀膜室外围设置，内部具有加热单元，用于提供预热腔室；

其中，所述真空镀膜室的第一外壁与所述预热空间的内壁均为圆柱体结构且贴合设置，所述第一外壁上间隔设置有若干第一敞口端，所述内壁上间隔设置有与所述第一敞口端等数量的第二敞口端；

所述真空镀膜室转动设置，当所述第一敞口端和所述第二敞口端错位设置时，所述第一真空腔室和所述预热腔室形成两独立的封闭空间，当所述第一敞口端和第二敞口端重合设置时，所述第一真空腔室和所述预热腔室形成联通的密闭空间；

所述预热空间的第二外壁上设置有供工件进入的门体，所述真空镀膜室顶部通过第一盖体密封；

还包括与所述第一敞口端等数量的移动单元，用于在所述第一真空腔室和所述预热腔室之间移动所述工件。

进一步地，所述真空镀膜室和预热空间的外部底部平面，以及内部腔室底部平面均重合设置；

所述移动单元包括：

电磁动力块，设置于所述真空镀膜室和预热空间底部，与所述第一敞口端等数量设置，沿所述真空镀膜室的径向方向移动；

吸附移动座，用于固定工件，贴合所述真空镀膜室和预热空间的内部腔室底部平面设置，且在所述电磁动力块的磁性吸附下沿重合的第一敞口端和第二敞口端在所述真空镀膜室和预热空间之间移动。

进一步地，所述移动单元还包括：

限位挡块，相邻两所述移动单元中的所述限位挡块对所述电磁动力块运动方向的两侧进行限制；

支撑板体，用于固定所述限位挡块，且对所述电磁动力块进行移动支撑。