[发明专利]一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构及其密封处理的方法

权利要求书

1.一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，包括瓷壳(1)，其特征在于：所述瓷壳(1)内设置有屏蔽筒(2)，所述屏蔽筒(2)的内壁镀覆有加强垫(3)，所述屏蔽筒(2)外壁的上方与压板(4)的内壁固定连接，所述压板(4)插接在限位槽(5)内，所述限位槽(5)开设在限位环(6)的上表面，所述限位环(6)固定连接在瓷壳(1)的内壁，所述瓷壳(1)的内壁固定连接有螺纹筒(7)，所述螺纹筒(7)内螺纹连接有外螺纹(8)，所述外螺纹(8)设置在屏蔽筒(2)的外壁，所述瓷壳(1)的上表面螺纹连接有端盖(10)，所述端盖(10)的上表面开设有螺纹槽(15)，所述螺纹槽(15)内螺纹连接有顶盖(12)。

2.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述端盖(10)的下表面与密封块(11)的上表面固定连接，所述密封块(11)卡接在瓷壳(1)上表面开设在斜槽内，所述密封块(11)设置为环状。

3.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述瓷壳(1)内壁的下方与橡胶隔层(9)的外壁固定连接，所述橡胶隔层(9)的内壁卡接在屏蔽筒(2)外壁开设的密封槽内。

4.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述压板(4)下表面设置的密封垫与限位环(6)的上表面搭接。

5.根据权利要求1所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构，其特征在于：所述端盖(10)的上表面开设有凹槽(13)，所述凹槽(13)的内壁与顶盖(12)内壁的上表面均设置有密封环(14)，两个所述密封环(14)的相对面紧密贴合。

6.一种真空灭弧室屏蔽筒密封处理的方法，其特征在于：使用权利要求1-5任一项所述的一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构。

7.根据权利要求6所述的一种真空灭弧室屏蔽筒密封处理的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、首先在对屏蔽筒(2)进行安装固定时，操作人员可将屏蔽筒(2)从瓷壳(1)的上方插入，使得屏蔽筒(2)位于瓷壳(1)内，并且将屏蔽筒(2)向下进行按压。

S2、当屏蔽筒(2)外壁的外螺纹(8)与螺纹筒(7)接触时，操作人员即可正转屏蔽筒(2)，使得屏蔽筒(2)在旋转的过程中可向下进行移动，且屏蔽筒(2)会带动压板(4)上的密封垫向下移动并且与限位环(6)紧密贴合，同时环状的压板(4)会卡入限位环(6)上方开设的限位槽(5)内。

S3、当屏蔽筒(2)在向下移动的过程中橡胶隔层(9)会在橡胶隔层(9)的外壁滑动，压板(4)无法向下移动时，橡胶隔层(9)的内壁与卡接在屏蔽筒(2)外壁开设的密封槽内，其次对屏蔽筒(2)的外壁与瓷壳(1)进行铸焊，即可实现对屏蔽筒(2)的固定密封。

S4、在对瓷壳(1)内屏蔽筒(2)整体密封时，首先旋拧端盖(10)，使得端盖(10)螺纹连接在瓷壳(1)内部，且密封块(11)紧贴瓷壳(1)上方开设的斜槽内，其次将端盖(10)与瓷壳(1)之间进行铸焊，实现对端盖(10)的密封。

S5、在进行最后一步密封时，旋紧顶盖(12)，使得顶盖(12)在旋转的过程中深入螺纹槽(15)内，使上方密封环(14)向下移动的过程中挤压下方密封环(14)，相互紧密贴合的密封环(14)进一步提高密封的效果，其次将顶盖(12)与端盖(10)进行铸焊作业，即可实现对屏蔽筒(2)的整体密封。