[发明专利]一种抛光装置及抛光组件在审
| 申请号： | 202010695885.7 | 申请日： | 2020-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN111805396A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 金泰源;张月;卢一泓;刘青 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B41/04;B24B47/12;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人： | 赵永刚 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 装置 组件 | ||
1.一种抛光装置，用于抛光晶圆，其特征在于，包括：
能够旋转的转盘；
设置在所述转盘上且具有抛光表面的抛光垫；
位于所述抛光垫上方且用于向所述抛光表面喷洒抛光液的喷头；
其中，所述抛光表面划分为多个抛光区；且每个抛光区上设置有用于将该抛光区的抛光液排出的排液孔；
还包括：控制所述每个排液孔是否排出所述抛光液的控制阀门。
2.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述多个抛光区环绕所述转盘的中心由内向外呈同心圆分布；
其中，所述多个抛光区中位于最内侧的抛光区为圆形区域，且相邻的两个同心圆之间的区域为一个抛光区。
3.如权利要求2所述的抛光装置，其特征在于，所述多个抛光区中位于最内侧的抛光区上的排液孔的个数为一个，且该排液孔设置在所述转盘的中心位置。
4.如权利要求2所述的抛光装置，其特征在于，所述多个抛光区中除所述最内侧的抛光区外的每个抛光区上的排液孔的个数均为至少两个。
5.如权利要求4所述的抛光装置，其特征在于，所述至少两个排液孔环绕所述转盘的中心均匀分布。
6.如权利要求4所述的抛光装置，其特征在于，所述多个抛光区中除所述最内侧的抛光区外的每个抛光区上所述排液孔的个数均相等。
7.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，还包括设置在所述转盘上且位于所述抛光垫下方的多个排液管；所述多个排液管与所述多个抛光区一一对应；且每个排液管与该排液管对应的抛光区上的排液孔连通；
所述控制阀门设置在每个抛光区对应的排液管上。
8.如权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，所述控制阀门控制所述抛光液的流量为0mL/min～300mL/min。
9.如权利要求8所述的抛光装置，其特征在于，所述控制阀门控制所述抛光液从所述排液孔中排出的流速不小于1mL/min。
10.一种抛光组件，其特征在于，包括：
如权利要求1～9任一项所述的抛光装置；
位于所述抛光装置上方且用于将所述晶圆抵压在所述抛光表面上的抛光头。
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