[发明专利]温度调整装置在审
申请号: | 202010691295.7 | 申请日: | 2020-07-17 |
公开(公告)号: | CN112289670A | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 莫云 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 温度 调整 装置 | ||
本发明提供一种温度调整装置,能够使第一面的面内的温度差变小。温度调整装置具有第一构件和流路。第一构件形成有被设为温度控制的对象的第一面。流路在第一构件的内部沿第一面形成,该流路的一端被设为用于导入传热介质的导入口,另一端被设为用于排出所述传热介质的排出口。流路形成为:与第一面之间的热阻随着从排出口去向导入口而增加。
技术领域
本发明涉及一种温度调整装置。
背景技术
专利文献1公开了一种等离子体处理装置,该等离子体处理装置通过使制冷剂在设置于载置台的内部的流路中流动来将基板进行冷却,以对载置于载置台上的基板进行温度调整。
专利文献1:日本特开2014-011382号公报
发明内容
本公开提供一种能够使第一面的面内的温度差变小的技术。
本公开的一个方式的温度调整装置具有第一构件和流路。第一构件形成有被设为温度控制的对象的第一面。流路在第一构件的内部沿第一面形成,该流路一端被设为用于导入传热介质的导入口,另一端被设为用于排出所述传热介质的排出口。流路形成为:与第一面之间的热阻随着从排出口去向导入口而增加。
根据本公开,能够使第一面的面内的温度差变小。
附图说明
图1是示出实施方式所涉及的等离子体处理装置的结构的一例的概要截面图。
图2是示出实施方式所涉及的载置台的主要部分结构的一例的概要截面图。
图3是示出从实施方式所涉及的载置台的上方观察该载置台结构的一例的俯视图。
图4是示出实施方式所涉及的载置台的流路的结构的一例的概要截面图。
图5是示出比较例所涉及的载置台的流路的结构的概要截面图。
图6是说明制冷剂在流路中流动时的热助跑区间和发展区域的图。
图7是示出沿着比较例所涉及的载置台的流路的温度变化的一例的图。
图8是示出实施方式所涉及的模拟结果的一例的图。
图9是示出实施方式所涉及的模拟结果的另一例的图。
图10是说明实施方式所涉及的载置台的热阻的图。
图11是示出实施方式所涉及的传热系数的变化的一例的图。
图12是示出实施方式所涉及的等离子体处理装置的结构的另一例的概要截面图。
1:处理容器;2:载置台;2a:基材;2b:上表面;6:静电吸盘;6e:载置面;8:晶圆;20:流路;20a:导入口;20b:排出口;21a:制冷剂入口配管;21b:制冷剂出口配管;16:喷淋头;16a:主体部;100:等离子体处理装置;220:流路;220a:导入口;220b:排出口;221a:制冷剂入口配管;221b:制冷剂出口配管。
具体实施方式
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