[发明专利]一种地物分类方法及装置有效

专利信息
申请号: 202010688763.5 申请日: 2020-07-16
公开(公告)号: CN111814715B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 王谱佐;高云龙 申请(专利权)人: 武汉大势智慧科技有限公司
主分类号: G06V10/764 分类号: G06V10/764;G06V20/10;G06T7/11;G06T7/136;G06T7/187;G06T7/90
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 严超
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 地物 分类 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种地物分类方法,其特征在于,包括:

获取无人机采集并经处理后生成的实景三维数据,解析所述实景三维数据得到表面三维的顶点、面片拓扑结构及纹理映射关系;

通过布料模拟算法对顶点数据滤波得到地面顶点构成的面片;

对面片颜色特征分析,基于植被颜色阈值进行植被的区域增长,得到植被面片的候选区;

其中,所述对面片颜色特征分析,基于植被颜色阈值进行植被的区域增长,得到植被面片的候选区具体为:

通过植被指数ExG-ExR分析面片颜色特征,得到植被初始种子点;

对植被初始种子点进行基于颜色阈值的区域增长,得到植被面片的候选区;

通过图割算法处理植被面片的候选区得到精确的植被类别面片;

其中,所述通过图割算法处理植被面片的候选区得到精确的植被类别面片包括:

根据三维地表模型的拓扑信息构建图结构,将面片颜色和法向量作为特征约束,迭代计算图结构中能量值,获取能量值最小化的一组解;

根据能量值最小化的一组解,对植被边界进行划分;

将近似垂直于地面的立面面片投影至二维平面,记录投影面积累计值,确定建筑物立面在二维平面的区域范围;

将建筑物立面区域范围反投影至三维面片,通过基于高度的区域增长得到建筑物类别的面片。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过布料模拟算法对顶点数据滤波得到地面顶点构成的面片还包括:

基于布料模拟算法将三维点云划分为地面和非地面两部分;

对滤波后的顶点,当面片顶点均为地面部分则将面片标注为地表类别。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过布料模拟算法对顶点数据滤波得到地面顶点构成的面片还包括:

基于面片顶点纹理坐标对应的颜色值,确定面片对应的纹理块;

计算纹理块三通道均值,通过三通道均值表示面片的颜色信息。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过植被指数ExG-ExR分析面片颜色特征包括:

分别计算每块面片的超绿色和超红色指标,将超绿色指标减去超红色指标后数值为正值的面片标注为植被,将非正值面片标注为非植被。

5.一种的用于地物分类的装置,其特征在于,包括:

解析模块,用于获取无人机采集并经处理后生成的实景三维数据,解析所述实景三维数据得到表面三维的顶点、面片拓扑结构及纹理映射关系;

滤波模块,用于通过布料模拟算法对顶点数据滤波得到地面顶点构成的面片;

增长模块,用于对面片颜色特征分析,基于植被颜色阈值进行植被的区域增长,得到植被面片的候选区;

其中,所述增长模块包括:

分析单元,用于通过植被指数ExG-ExR分析面片颜色特征,得到植被初始种子点;

增长单元,用于对植被初始种子点进行基于颜色阈值的区域增长,得到植被面片的候选区;

图割模块,用于通过图割算法处理植被面片的候选区得到精确的植被类别面片;

其中,所述通过图割算法处理植被面片的候选区得到精确的植被类别面片包括:

根据三维地表模型的拓扑信息构建图结构,将面片颜色和法向量作为特征约束,迭代计算图结构中能量值,获取能量值最小化的一组解;

根据能量值最小化的一组解,对植被边界进行划分;

投影模块,用于将近似垂直于地面的立面面片投影至二维平面,记录投影面积累计值,确定建筑物立面在二维平面的区域范围;

反投影模块,用于将建筑物立面区域范围反投影至三维面片,通过基于高度的区域增长得到建筑物类别的面片。

6.一种电子设备,包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至4中任一项所述地物分类方法的步骤。

7.一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至4任一项所述地物分类方法的步骤。

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