[发明专利]一种铸造合金熔炼用真空感应熔炼炉设备及其工作方法有效
| 申请号: | 202010681190.3 | 申请日: | 2020-07-15 |
| 公开(公告)号: | CN111854432B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
| 发明(设计)人: | 程国华;吴文京 | 申请(专利权)人: | 宁国市华成金研科技有限公司 |
| 主分类号: | F27B14/04 | 分类号: | F27B14/04;F27B14/06;F27B14/10;F27B14/20;F27D3/15 |
| 代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 韩立峰 |
| 地址: | 242300 安徽省宣*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 铸造 合金 熔炼 真空 感应 熔炼炉 设备 及其 工作 方法 | ||
本发明公开了一种铸造合金熔炼用真空感应熔炼炉设备及其工作方法,通过设置的真空座和连接管对反应座的内部进行真空操作,设置的第一传感器和第三传感器可以分别获取反应座和模具座内部的压力值,可以及时调整反应座和模具座内部的压力,设置的第二传感器和第四传感器可以分别获取反应座和模具座内部的温度值,可以及时调整反应座和模具座内部的温度,设置的导流瓷管和过滤器对熔化的金属炉料进行导流和过滤,避免浇筑模具过程中受温度以及气体的影响,可以有效提高浇筑的质量和效率,解决了现有方案中在浇筑模具过程中受温度以及气体的影响,导致浇筑成型的质量参差不齐以及效率低的问题。
技术领域
本发明涉及真空感应熔炼炉技术领域,尤其涉及一种铸造合金熔炼用真空感应熔炼炉设备及其工作方法。
背景技术
真空感应熔炼在电磁感应过程中会产生涡电流,使金属熔化,此制程可用来提炼高纯度的金属及合金;主要包括真空感应炉熔炼、悬浮熔炼和冷坩埚熔炼,由于在真空下熔炼容易将溶于钢和合金中的氮、氢、氧和碳去除到远比常压下冶炼为低的水平,同时对于在熔炼温度下蒸气压比基体金属高的杂质元素(铜、锌、铅、锑、铋、锡和砷等)可通过挥发去除,而合金中需要加入的铝、钛、硼及锆等活性元素的成分易于控制;因此经真空感应熔炼的金属材料可明显地提高韧性、疲劳强度、耐腐蚀性能,高温蠕变性能以及磁性合金的磁导率等多种性能。
公开号(CN210173503U)公开了一种镍锭真空感应熔炉腔内工作平台,包括熔炉主体、操作台和工作台,熔炉主体底端的中部固定设有熔炼台,熔炼台的一侧固定设有收集箱,熔炼台的顶端固定设有操作台,操作台顶端的中部等距设有若干保护块,操作台顶端的一侧固定设有引流板,且引流板的一侧与操作台顶端的中部相通。本实用新型一种镍锭真空感应熔炉腔内工作平台,在操作台顶端放置有两个工作台,两个工作台通过连接杆衔接在一起,并通过合页与支撑板铰接,支撑柱和底板将工作台稳定,在镍锭真空感应熔炉腔内设置工作平台,便于操作人员在腔内进行作业,避免出现作业不彻底的情况,从而保证镍锭真空感应熔炉的使用寿命。存在的缺陷包括:在浇筑模具过程中受温度以及气体的影响,导致浇筑成型的质量参差不齐的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种铸造合金熔炼用真空感应熔炼炉设备及其工作方法,解决的技术问题包括:
如何解决在浇筑模具过程中受温度以及气体的影响,导致成型的质量参差不齐的问题。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种铸造合金熔炼用真空感应熔炼炉设备,包括真空座、反应座、加取料座、坩埚、导流瓷管和模具座,所述反应座位于所述真空座的上端,所述加取料座位于反应座的后端,所述坩埚、导流瓷管和模具座均位于反应座的内部,所述导流瓷管位于坩埚和模具座之间靠近中间的位置,所述坩埚位于模具座的上方,所述坩埚和模具座之间靠近两侧的位置连接有第一支撑柱和第二支撑柱;
所述导流瓷管的内部靠近上方的位置连接有过滤器,所述导流瓷管的内表面靠近下方的位置安装有第一导流瓷板和第二导流瓷板,所述第一导流瓷板位于第二导流瓷板的一侧,所述过滤器的内部设置有过滤孔,所述过滤器与导流瓷管卡合固定。
进一步的,所述反应座的内表面靠近两侧的位置安装有第一导流柱和第二导流柱,所述第一导流柱与第一支撑柱之间连接有第一连接柱,所述第二导流柱与第二支撑柱之间连接有第二连接柱,所述反应座的内表面靠近两侧的位置安装有第一传感器和第二传感器,所述第一传感器位于第一导流柱的上端,所述第二传感器位于第二导流柱的上端,所述反应座的内部靠近底端的位置设置有连接管,所述反应座通过连接管与真空座连接。
进一步的,所述反应座的上端转动连接有转板,该转板的上端设置有排气座,所述反应座的前端靠近上方的位置安装有挡板,所述反应座的前端靠近中间的位置镶嵌有观察窗,所述加取料座的下端连接有若干个支撑底柱。
进一步的,所述第一连接柱贯穿第一支撑柱的内部至坩埚的下端靠近一侧的位置,所述第二连接柱贯穿第二支撑柱的内部至坩埚的下端靠近另一侧的位置。
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