[发明专利]用于大尺寸电极的自动研磨装备在审
| 申请号: | 202010674711.2 | 申请日: | 2020-07-14 |
| 公开(公告)号: | CN111791142A | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
| 发明(设计)人: | 金卫明;宋微;朱传兵;亓露 | 申请(专利权)人: | 芜湖通潮精密机械股份有限公司 |
| 主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B41/02;B24B45/00 |
| 代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 吴慧 |
| 地址: | 241000 安徽省芜*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 尺寸 电极 自动 研磨 装备 | ||
本发明公开了一种用于大尺寸电极的自动研磨装备,包括研磨加工台、X轴横梁、Y轴横梁和Z轴研磨机构,X轴横梁设置在研磨加工台的左右两边,Y轴横梁滑动连接在X轴横梁上,Z轴研磨机构滑动连接在Y轴横梁上。研磨加工台上设有挡水板,挡水板连接在研磨加工台的框架上。框架包括前框架和后框架,前框架与后框架通过平衡块连接在一起。平衡块包括主平衡块和副平衡块,主平衡块焊接在前框架上,副平衡块焊接在后框架上,主平衡块与副平衡块通过并联螺栓连接在一起,主平衡块上还设有用于调节平行度的水平调节孔,水平调节孔内设有水平调整螺栓,可以起到调整平行度作用同时也能更好的把两个框架在后期工作过程中的震动吸能,使整体结构更稳定。
技术领域
本发明属于电极研磨技术领域,具体涉及一种用于大尺寸电极的自动研磨装备。
背景技术
CVD设备、Dry Etch设备,内部核心电极部件研磨、抛光一直是液晶面板显示行业的难点,其中核心零件表面粗糙度、镜面度、平坦度,对Glass气象沉积的范围、均匀度、使用寿命,等有很大的影响,其中有一款比较特殊的产品(Susceptor见图示7),此产品背部带一根Shaft,导致整体高度达到1.2~1.8米这对研磨固定台面要求比较高,并且在人工作业过程中很不方便。
为提高我公司产品附价值,寻求新的效益增长点,解决实际难题,在依托面板厂家,组织技术人员分组实验做相关分析实验,在取得大量技术参数的基础上,选择最优化的相关数据方案得出结论定义。需要在此核心部件生产过程中专门定制一款满足可以研磨CVD Chamber、Dry Etch Chamber设备核心零部件的大尺寸电极自动研磨装备,为了节约开发成本要求该项目大尺寸电极自动研磨装备需要满足两种核心设备零部件不同工艺的标准来执行研磨,并且通用所有大尺寸高世代线的核心产品研磨制造,达到增加生产效率、提高品质、降低成本等技术需求。
发明内容
针对现有技术中存在的不足,本发明的目的在于提供一种用于大尺寸电极的自动研磨装备。
为实现上述目的,本发明的技术方案为:一种用于大尺寸电极的自动研磨装备,其特征在于:包括研磨加工台、X轴横梁、Y轴横梁和Z轴研磨机构,所述X轴横梁设置在研磨加工台的左右两边,Y轴横梁横跨研磨加工台滑动连接在X轴横梁上,Z轴研磨机构滑动连接在Y轴横梁上。
进一步的,所述研磨加工台上与X轴横梁相邻的两条边上设有挡水板,挡水板与研磨加工台连接的一侧设有卡扣,卡扣上设有安装孔,挡水板通过紧固件与卡扣上的安装孔配合连接在研磨加工台的框架上。
进一步的,所述研磨加工台包括框架和工作台面,工作台面安装在框架的上端,框架的下端固定连接在地面上,框架与工作台面之间为焊接一体精加工成型,在工作台面的四周设有溢流槽。
进一步的,所述工作台面上设有水平垫块和中心垫块,中心垫块位于工作台面的中心,水平垫块布满工作台面,水平垫块上设有通孔,中心垫块上设有中心孔,在中心孔的四周设有溢流槽。
进一步的,所述框架为前后对中拆分结构,框架包括前框架和后框架,前框架与后框架通过平衡块连接在一起。
进一步的,所述平衡块包括主平衡块和副平衡块,主平衡块焊接在前框架上,副平衡块焊接在后框架上,主平衡块与副平衡块通过并联螺栓连接在一起,主平衡块上还设有用于调节平行度的水平调节孔,水平调节孔内设有水平调整螺栓。
进一步的,所述X轴横梁上设有导轨和连接板,导轨Ⅰ设置在X轴横梁的上端面,连接板滑动连接在导轨上,X轴横梁的下端通过工字钢连接在研磨加工台上。
进一步的,所述Y轴横梁的端部连接在X轴横梁的连接板上,Y轴横梁包括齿条固定梁、导轨固定梁、齿条、导轨Ⅱ、电机安装座和用于驱动Y轴横梁沿X轴横梁运动的电机,电机安装在电机安装座上,齿条安装在齿条固定梁上,齿条与电机的输出轴连接,导轨Ⅱ安装在导轨固定梁上,Z轴研磨结构滑动连接在导轨Ⅱ上。
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