[发明专利]化学机械抛光设备和方法及制造显示装置的方法

权利要求书

1.一种化学机械抛光设备，包括：

输送带，传送基底；

抛光头，设置在所述输送带上方；以及

主体部件，连接到所述抛光头，所述主体部件移动所述抛光头并且向所述抛光头供应浆料，并且

其中，所述抛光头包括：

第一浆料出口；

第一抛光部件，包括围绕所述第一浆料出口的第一抛光垫；

第二抛光部件，围绕所述第一抛光部件并且包括第二抛光垫；以及

第二浆料出口，设置在所述第一抛光部件和所述第二抛光部件之间，

其中，所述第一抛光部件和所述第二抛光部件在垂直于所述基底的方向上是彼此独立地可移动的。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其中，所述化学机械抛光设备还包括：

第一旋转构件，连接到所述第一抛光部件；以及

第二旋转构件，围绕所述第一旋转构件并且连接至所述第二抛光部件，其中

所述第一浆料出口沿所述第一抛光部件和所述第一旋转构件形成，并且

所述第二浆料出口形成在所述第一抛光部件和所述第二抛光部件之间以及所述第一旋转构件和所述第二旋转构件之间。

3.根据权利要求2所述的化学机械抛光设备，其中，

所述第一抛光部件具有圆柱形状，并且

所述第一抛光部件和所述第二抛光部件是一起可旋转的或分别可旋转的。

4.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其中，所述化学机械抛光设备还包括：

第三抛光部件，围绕所述第二抛光部件，并且包括第三抛光垫。

5.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其中，所述化学机械抛光设备还包括：

第三抛光部件，与所述第一抛光部件间隔开并且包括第三抛光垫，其中

所述第二抛光部件设置在所述第一抛光部件和所述第三抛光部件之间，并且

所述第一抛光垫的面积和所述第三抛光垫的面积彼此不同。

6.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其中，所述化学机械抛光设备还包括：

支撑部件，在所述输送带上邻近所述基底设置以补偿与所述基底的阶差。

7.根据权利要求6所述的化学机械抛光设备，其中，所述基底的厚度等于所述支撑部件的厚度。

8.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其中，

所述第一抛光垫具有第一面积，

所述第二抛光垫具有第二面积，

当所述抛光头在平面图上与所述基底的整个面积重叠时，所述第一抛光部件和所述第二抛光部件都接触所述基底以抛光所述基底，并且

当所述抛光头在平面图上与所述基底部分地重叠时，所述第一抛光部件比所述第二抛光部件更靠近所述基底地垂直移动，使得仅所述第一抛光部件接触所述基底以抛光所述基底。

9.根据权利要求8所述的化学机械抛光设备，其中，所述化学机械抛光设备还包括具有第三面积的第三抛光垫，其中，

当所述抛光头在平面图上与所述基底的所述整个面积重叠时，所述第一抛光部件、所述第二抛光部件和所述第三抛光部件接触所述基底以抛光所述基底。

10.一种化学机械抛光方法，其中，所述化学机械抛光方法包括：

将基底装载到输送带上；

通过化学机械抛光设备对所述基底的上表面抛光，所述化学机械抛光设备包括设置在所述输送带上方的抛光头，其中所述抛光头包括第一浆料出口、围绕所述第一浆料出口的第一抛光部件以及围绕所述第一抛光部件的第二抛光部件；

用所述第一抛光部件和所述第二抛光部件中的至少一个抛光所述基底的所述上表面；以及

从所述输送带卸载所述基底。

11.根据权利要求10所述的化学机械抛光方法，其中，所述化学机械抛光方法还包括：

在所述输送带上邻近所述基底附接支撑部件，以补偿与所述基底的阶差。