[发明专利]一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将掩模板悬空固定于基底上方，放入溅射仪的真空腔内，将靶材固定于阴极上，基底置于正对靶面的阳极上，抽真空后，通入惰性气体，采用溅射法制备周期性多方向厚度梯度薄膜；所述掩模板与基底的距离为h；所述掩模板具有网孔，所述网孔的尺寸记为w，肋宽记为d，所述h、w和d可调节；所述h＞0。

2.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，h为70~120μm；w为63~280μm；d为11~75。

3.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，通入惰性气体后，控制真空腔的本底真空度为2*10^-4Pa。

4.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，所述基底选自玻璃片、硅片和聚合物中的一种或几种复合。

5.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，所述基底为玻璃片，所述玻璃片上悬涂有聚二甲基硅氧烷涂层。

6.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，所述网孔的形状为光栅状、矩形状或圆孔状。

7.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，所述靶材选自铁靶材、钼靶材和银靶材中的一种。

8.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，溅射过程中控制溅射电压为260~380V；溅射电流为0.16~0.2A；功率为41.6~76W。

9.根据权利要求1所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，溅射速率为6~15nm/min。

10.根据权利要求1-9任一所述的一种周期性多方向厚度梯度薄膜的制备方法，其特征在于，所述周期性多方向厚度梯度薄膜的网孔中心区域膜厚控制在3~450nm。