[发明专利]一种复合薄膜、量子点发光二极管及其制备方法在审
| 申请号: | 202010652145.5 | 申请日: | 2020-07-08 |
| 公开(公告)号: | CN113912877A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | 徐威 | 申请(专利权)人: | TCL科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L65/00;C08L25/18;C08K3/22;H01L51/50;H01L51/56;H01L51/54 |
| 代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 刘芙蓉 |
| 地址: | 516000 广东省惠州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 复合 薄膜 量子 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种复合薄膜、量子点发光二极管及其制备方法。所述复合薄膜的制备方法包括步骤:将三异丙氧基氧化钒溶液与PEDOT:PSS溶液混合,得到混合液;将所述混合液沉积成膜,并加热,得到包括PEDOT:PSS与VOx组成的复合薄膜;其中X的取值为2‑2.5。本发明采用三异丙氧基氧化钒(C9H21O4V)溶液掺入PEDOT:PSS溶液,形成PEDOT:PSS‑VOx复合材料,可以降低PEDOT:PSS的亲水性和酸性,提高PEDOT:PSS的功函数,有利于降低PEDOT:PSS与HTL层之间的空穴注入势垒。另外,掺入VOx可以提高PEDOT:PSS的折射率,有利于降低膜厚,改善器件效率及稳定性。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种复合薄膜、量子点发光二极管及其制备方法。
背景技术
QLED器件具有发光线宽窄,发光波长可调,发光色饱和度高,发光色域广等优势,其发光材料为无机纳米晶体,理论寿命较长,器件稳定性好。人们通过改变电荷传输层材料,优化器件结构不断提升QLED器件性能,现有器件中通常采用PEDOT:PSS作为空穴传输层材料,由于PEDOT:PSS的酸性和亲水性将降低器件的稳定性;而且,PEDOT:PSS的功函数在4.9~5.1eV,低于空穴传输层的最高占据分子轨道HOMO能级5.5eV,存在一定的能级差即空穴注入势垒,将导致器件中空穴和电子注入不平衡,影响器件的效率和稳定性;另外,PEDOT:PSS的折射率为1.5,折射较低,不利于器件膜层厚度控制及器件效率提升;因此,需要改善PEDOT:PSS的性能优化器件效率及寿命。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种复合薄膜、量子点发光二极管及其制备方法,旨在解决现有基于PEDOT:PSS的器件,其效率及寿命仍有待改善的问题。
本发明的技术方案如下:
一种复合薄膜的制备方法,其中,包括步骤:
将三异丙氧基氧化钒溶液与PEDOT:PSS溶液混合,得到混合液;
将所述混合液沉积成膜,并加热,得到包括PEDOT:PSS与VOx组成的复合薄膜;其中X的取值为2-2.5。
一种复合薄膜,其中,所述复合薄膜的材料包括PEDOT:PSS与VOx复合形成的复合材料;其中X的取值为2-2.5。
一种量子点发光二极管,包括:阳极、阴极、设置在所述阳极和阴极之间的量子点发光层、设置在所述阳极和量子点发光层之间的空穴注入层,其中,所述空穴注入层包括本发明所述的方法制备得到的复合薄膜;和/或所述空穴注入层包括本发明所述的复合薄膜。
一种量子点发光二极管的制备方法,其中,包括步骤:
提供阳极;
将三异丙氧基氧化钒溶液与PEDOT:PSS溶液混合后,沉积于所述阳极上,加热得到包括PEDOT:PSS与VOx组成的空穴注入层;其中X的取值为2-2.5;
在所述空穴注入层上形成量子点发光层;
在所述量子点发光层上形成阴极,得到所述量子点发光二极管;
或者,提供阴极;
在所述阴极上形成量子点发光层;
将三异丙氧基氧化钒溶液与PEDOT:PSS溶液混合后,沉积于所述量子点发光层上,加热得到包括PEDOT:PSS与VOx组成的空穴注入层;其中X的取值为2-2.5;
在所述空穴注入层上形成阳极,得到所述量子点发光二极管。
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