[发明专利]蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其包含：

含有磷酸盐、硫酸盐和硝酸盐的无机酸盐的混合物，

具有一个以上的羧基且不含氮原子的有机酸或其盐，以及

过氧化氢，

所述无机酸盐满足下述关系式1：

关系式1

0A/C1A/B

在所述关系式1中，

A为磷酸盐的重量，单位为g，

B为硫酸盐的重量，单位为g，

C为硝酸盐的重量，单位为g。

2.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，以100重量份的磷酸盐A为基准，所述无机酸盐的混合物以10至90重量份的所述硫酸盐B和110至500重量份的所述硝酸盐C进行混合。

3.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，相对于所述铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物总重量，所述无机酸盐的混合物以0.001至20重量％被包含。

4.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述无机酸盐的混合物各自的无机酸盐彼此独立地包含铵离子、碱金属离子或碱土金属离子。

5.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述无机酸盐的混合物均包含相同的阳离子。

6.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述无机酸盐的混合物至少包含两种以上的不同的阳离子。

7.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，所述有机酸选自乙酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡萄糖酸、乙醇酸、磺基苯甲酸、磺基琥珀酸、磺基邻苯二甲酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、琥珀酸、苹果酸和异柠檬酸。

8.根据权利要求1所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，进一步包含氟系化合物。

9.根据权利要求1或8所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物，其中，进一步包含选自蚀刻抑制剂、螯合剂、双氧水稳定剂和pH调节剂中的一种或两种以上的添加剂。

10.一种显示基板的制造方法，其包括如下步骤：

在基板上形成包含铜膜和含钼膜的金属层的步骤，以及

在所述金属层上形成光致抗蚀剂图案后，蚀刻具有所述金属层和所述光致抗蚀剂图案的基板，部分去除所述金属层而形成金属配线的步骤，

所述蚀刻是利用权利要求1至9中任一项所述的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物进行处理而实施的。

11.根据权利要求10所述的显示基板的制造方法，其中，在所述金属层中，所述铜膜的锥角为50°至65°。

12.根据权利要求10所述的显示基板的制造方法，其中，所述金属层的部分表面进一步包括选自硅绝缘膜和透明导电膜中的一者的单膜或两者以上的多层膜。