[发明专利]一种显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

薄膜晶体管阵列基板；

阳极，所述阳极设置在所述薄膜晶体管阵列基板上；

像素定义层，所述像素定义层设置在所述阳极和所述薄膜晶体管阵列基板上，所述像素定义层包括第一区域和第二区域，其中，所述第一区域设置有开口，所述开口的底部与所述阳极相连，所述第二区域设置有多个凹槽；

发光层，所述发光层设置于所述开口内；

阴极，所述阴极覆盖所述发光层和所述像素定义层；

封装层，所述封装层覆盖所述阴极。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽是通过移印工艺形成的。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽包括第一凹槽和至少一个第二凹槽，其中，所述第二凹槽的开口位于所述第一凹槽的侧壁和/或底部。

4.根据权利要求1至3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度小于所述像素定义层的厚度。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括填充层，所述填充层覆盖所述凹槽的至少一部分。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述填充层的材料包括无机材料。

7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括:

步骤A：形成薄膜晶体管阵列基板；

步骤B：形成阳极，所述阳极设置在所述薄膜晶体管阵列基板上；

步骤C：形成像素定义层，所述像素定义层包括第一区域和第二区域，其中，所述第一区域设置有开口，所述第二区域设置有多个凹槽；

步骤D：形成发光层，所述发光层设置于所述开口内；

步骤E：形成阴极，所述阴极覆盖所述发光层和所述像素定义层；

步骤F：形成封装层，所述封装层覆盖所述阴极。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤C包括：

步骤c1：形成像素定义材料层；

步骤c2：图案化所述第一区域，以形成所述开口；

步骤c3：利用移印工艺对所述第二区域进行处理，以形成所述凹槽，其中，所述凹槽包括第一凹槽和至少一个第二凹槽，所述第二凹槽的开口位于所述第一凹槽的侧壁和/或底部。

9.根据权利要求7或8任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤C之后，还包括步骤G:

形成填充层，所述填充层覆盖所述凹槽的至少一部分。

10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述填充层的材料包括无机材料。