[发明专利]一种碱土金属离子掺杂提高红外光发射的硅基SnO2 有效
申请号: | 202010636000.6 | 申请日: | 2020-07-03 |
公开(公告)号: | CN112175612B | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | 徐骏;张阳熠;王理想;陈佳明;侯国智;李东珂;陈坤基 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | C09K11/66 | 分类号: | C09K11/66 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陈建和 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碱土金属 离子 掺杂 提高 红外光 发射 sno base sub | ||
一种碱土金属离子掺杂提高红外光发射的硅基SnO2:Er3+复合薄膜及制备方法,所述的碱土金属离子包括镁Mg2+、钙Ca2+、锶Sr2+和钡Ba2+;硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜,其结构为SnO2:Er3+纳米晶镶嵌的非晶SiO2薄膜;相对于Si元素Sn4+的掺杂浓度范围为5‑50mol%,Er3+离子的浓度为3‑10mol%,碱土金属掺杂浓度为0.01‑25mol%。通过碱土金属离子掺杂提高硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜红外光发射的强度。采用碱土金属氯酸盐作为掺杂剂,通过匀胶技术结合后退火处理制备碱土金属离子掺杂硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜。
技术领域
本发明涉及提高硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜红外光发射的方法,具体涉及到采用碱土金属离子掺杂结合匀胶技术和后退火工艺来制备硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜的方法,尤其涉及到提高Er3+离子红外光(1530nm)波段发射的方法。
背景技术
Er3+离子第一激发态4I13/2能级到基态4I15/2能级的跃迁对应于1530nm波段的近红外光发射,其正好落在石英光波导纤维最小损耗窗口范围之内。因此具有近红外光发射的Er3+掺杂硅基宽带隙半导体材料备受科研工作者的关注。Er3+掺杂氧化硅薄膜具有硅基兼容的特点,其有可能用于制备近红外LED光源而应用于硅基单片光互联。由于Er3+的光吸收截面很小,人们在Er3+掺杂氧化硅薄膜中引入金属氧化物半导体纳米晶,通过纳米晶到Er3+离子有效的共振能量传递实现Er3+离子近红外光的增强。目前,宽禁带氧化物半导体In2O3,ZnO和SnO2等纳米晶作为能量共振传递的施主已经有了一定研究。特别是SnO2纳米晶,可以通过调节SnO2纳米晶的尺寸实现SnO2纳米晶到稀土离子高效的共振能量传递。相较于SiO2:Er3+薄膜,SiO2/SnO2:Er3+薄膜的稀土发光强度具有3 个数量级的提高。
为了进一步提高硅基SnO2:Er3+薄膜Er3+离子红外光发射,我们选择采用碱土金属离子(Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+等,包含这些但不限于这些)掺杂的方式。碱土金属离子掺杂可以有效的调节SnO2的晶体结构、光学带隙和光电性能,以及可以调控SnO2纳米晶中氧空位缺陷的数量等。我们采用湿化学方法结合匀胶技术和后退火处理制备碱土金属离子(Ba2+、Mg2+、Sr2+和Ca2+)掺杂硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜。在325nm激光的激发下,发现复合结构薄膜Er3+离子的红外光发射强度得到了大幅度的提高。碱土金属离子掺杂硅基SnO2:Er3+复合结构薄膜红外光发射强度的提高有望在硅基光电互联领域的应用中提供技术支持。
发明内容
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