[发明专利]用于处理基板的装置和方法

权利要求书

1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

腔室，在所述腔室中具有处理空间；

支承单元，其配置为在所述处理空间中支承所述基板；

气体供应单元，其配置为将用于处理所述基板的工艺气体供应到所述处理空间中；

等离子体源，其配置为通过激发供应到所述处理空间中的所述工艺气体来产生等离子体；

加热器，其配置为加热用于所述基板的不同区域的所述支承单元；

加热器电源，其配置为将功率施用到所述加热器；

多条加热器电缆，其配置为将所述功率输送到所述加热器；以及

配置为接地的可变电容器，所述配置为接地的可变电容器分别连接到所述多条加热器电缆。

2.根据权利要求1所述的装置，其还包括：

滤波器，其配置为使所述功率通过所述多条加热器电缆、并且中断将RF功率引入到所述加热器电源中，

其中，所述多条加热器电缆连接在所述滤波器和所述加热器之间。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述配置为接地的可变电容器连接到所述滤波器的输入端子。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述滤波器包括多个端子，并且

其中，所述配置为接地的可变电容器连接到所述多个端子中的接地端子。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述配置为接地的可变电容器在接地状态或浮置状态之一中操作。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，在所述浮置状态中，通过调节各所述可变电容器的电极之间的距离，来控制施用到所述基板的各个所述不同区域的等离子体电压。

7.根据权利要求5所述的装置，其中，通过接通/断开与各所述可变电容器并联连接的接地开关，来调节所述接地状态。

8.根据权利要求1到7中任一项所述的装置，其中，所述装置通过调节所述配置为接地的可变电容器，来调节所述基板的各个所述不同区域的功率损耗的大小。

9.根据权利要求1到7中任一项所述的装置，其中，所述装置通过调节所述配置为接地的可变电容器，来调节施用到所述基板的各个所述不同区域的等离子体电压。

10.一种基板处理方法，其用于通过调节施用到基板的各个不同区域的功率来控制等离子体，所述基板处理方法包括：

通过调节可变电容器来控制施用到所述基板的所述各个不同区域的等离子体，所述可变电容器包括在加热器电缆的端部中，所述加热器电缆配置为连接所述基板和加热器电源，所述加热器电源配置为将功率施用到所述基板的所述不同区域。

11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其中，所述可变电容器是连接成接地的组件。

12.根据权利要求11所述的基板处理方法，其中，所述可变电容器在接地状态或浮置状态之一中操作。

13.根据权利要求12所述的基板处理方法，其中，在所述浮置状态下，通过调节各所述可变电容器的电极之间的距离，来控制施用到所述基板的所述各个不同区域的等离子体电压。

14.根据权利要求12所述的基板处理方法，其中，通过接通/断开与各所述可变电容器并联连接的接地开关，来调节所述接地状态。