[发明专利]测量装置、测量系统及存储介质在审

专利信息
申请号: 202010622686.3 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN112179268A 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 石下雅史;宍户裕子 申请(专利权)人: 株式会社三丰
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G01B11/24
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 张黎;王刚
地址: 日本国神奈川县*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 测量 装置 系统 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种测量装置,包含:

存储部,其存储有用于将与白光的干涉相关的2个光路的光路差从基于所述干涉而出现的颜色进行测量的信息;以及

运算部,其从由分别包含表示颜色的信息的多个像素构成的图像,至少根据存储于所述存储部的所述信息,来测量与各像素相关的所述光路差。

2.根据权利要求1所述的测量装置,其中,

存储于所述存储部的所述信息是利用由能导出颜色的构成要素的比率的值以及能导出与该比率对应的所述光路差的值组成的多个组而构成的表格。

3.根据权利要求1所述的测量装置,其中,

在所述图像中拍摄有测量物,

所述运算部还从测量出的与各像素相关的所述光路差测量所述测量物的形状,

所述测量装置还包含显示部,所述显示部用于显示对所述测量物进行测量而得到的所述形状。

4.一种测量系统,包含权利要求1所述的测量装置、以及光学系统,

所述光学系统包含:

光源部,其生成所述白光;

拍摄部,其生成所述图像;

参照物;

第一光路,其是从所述光源部起至所述拍摄部为止、且至少被所述参照物进行了折返的光路;以及

第二光路,其是从所述光源部起至所述拍摄部为止、且至少被测量物进行了折返的光路,

所述光学系统构成为:经过所述第一光路的光与经过所述第二光路的光相干涉,

存储于所述存储部的所述信息是根据所述光学系统以及所述测量物的至少一部分而确定的。

5.根据权利要求4所述的测量系统,其中,

存储于所述存储部的所述信息是利用由能导出颜色的构成要素的比率的值以及能导出与该比率对应的所述光路差的值组成的多个组而构成的表格。

6.根据权利要求4所述的测量系统,其中,

在所述图像中拍摄有测量物,

所述运算部还从测量出的与各像素相关的所述光路差测量所述测量物的形状,

所述系统还具备显示部,所述显示部用于显示对所述测量物进行测量而得到的所述形状。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的测量系统,其中,

所述光学系统构成为:使基于所述干涉的光的相互助长程度最大的、最接近零的所述光路差根据所述光的波长而不同。

8.根据权利要求4所述的测量系统,其中,

所述光路差是在将所述第一光路的光路长度以及所述第二光路的光路长度固定的状态下进行测量的。

9.一种存储介质,存放有程序,所述程序使存储有用于将与白光的干涉相关的2个光路的光路差从基于所述干涉而出现的颜色进行测量的信息的计算机从由分别包含表示颜色的信息的多个像素构成的图像,至少根据所存储的所述信息,来测量与各像素相关的所述光路差。

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