[发明专利]显示基板及其制备方法、曝光对位方法

说明书

提供一种显示基板及其制备方法、曝光对位方法，该显示基板包括衬底以及设置在所述衬底上的低反射膜层，所述低反射膜层包括设置于所述衬底之上的晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构，所述棱锥微结构的外表面形成有多个微孔。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、曝光对位方法。

背景技术

彩膜基板是实现彩色显示的关键材料，在显示屏中所占的成本极高。彩膜基板除了影响色彩外，还影响亮度、对比度等光学特性。彩膜基板主要结构包括衬底、黑色矩阵(BM)、色层(RGB)、保护层、导电膜层、隔垫柱等。黑色矩阵的基本功能是遮光，目的是提高对比度，避免相连色层混色，减少外界光反射，防止外界光线照射到薄膜晶体管而增加漏电流，使用黑色矩阵可以有效遮断子像素间的漏光。在G2.5代线中，涂覆黑色矩阵后无法识别前层的对位标记，无法在曝光机上自动对位，需要手动对应，降低了良率和效率。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法、曝光对位方法，实现在曝光机上自动对位，提高了生产效率。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底以及设置在所述衬底上的低反射膜层，所述低反射膜层包括设置于所述衬底之上的晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构，所述棱锥微结构的外表面形成有多个微孔。

在一些可能的实现方式中，所述微孔在所述棱锥微结构的外表面呈螺旋形排布。

在一些可能的实现方式中，所述棱锥微结构的高度不同。

在一些可能的实现方式中，所述低反射膜层采用多晶硅材料。

在一些可能的实现方式中，还包括设置于所述衬底之上的发光驱动电路，所述发光驱动电路位于所述衬底与所述低反射膜层之间。

在一些可能的实现方式中，还包括设置于所述低反射膜层之上的导电膜层，所述低反射膜层中设置有与所述发光驱动电路连通的过孔，所述导电膜层通过所述过孔与所述发光驱动电路连接。

在一些可能的实现方式中，还包括设置于所述衬底之上的挡墙，所述挡墙围绕所述低反射膜层的四周。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括：

在衬底上沉积晶体薄膜；

对所述晶体薄膜进行腐蚀，使所述晶体薄膜形成晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构；

在所述棱锥微结构上形成多个金属粒子；

通过刻蚀工艺，使所述金属粒子嵌入所述棱锥微结构中；

将所述棱锥微结构上的金属粒子去除，使所述棱锥微结构的外表面上形成多个微孔，所述晶体基底和所述棱锥微结构形成低反射膜层。

在一些可能的实现方式中，在所述棱锥微结构上形成多个金属粒子，包括：

在所述棱锥微结构上沉积金属薄膜；

对所述金属薄膜进行退火工艺，使所述金属薄膜在所述棱锥微结构上形成多个金属粒子。

本发明实施例还提供了一种曝光对位方法，包括：

在衬底上沉积钝化层；

在所述钝化层上形成对位标记；

在所述钝化层上沉积覆盖所述对位标记的晶体薄膜；

使曝光光线穿过所述晶体薄膜与所述对位标记进行自动曝光对位；

对所述晶体薄膜进行腐蚀，使所述晶体薄膜形成晶体基底以及形成于所述晶体基底上的多个棱锥微结构；