[发明专利]保持装置、曝光装置、物品制造方法在审
| 申请号: | 202010587042.5 | 申请日: | 2020-06-24 |
| 公开(公告)号: | CN112147855A | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
| 发明(设计)人: | 中岛猛;羽切正人;辻穣 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B7/00 |
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 程晨 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 保持 装置 曝光 物品 制造 方法 | ||
本发明提供一种保持装置、曝光装置、物品制造方法。为了提供能够以再现光学面的形状的方式保持光学元件的保持装置,本发明所涉及的保持装置以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式,保持光学元件,其中,具备:保持光学元件的台座及载置台座的载置台,台座及载置台相互针对的接触面的一方是曲面;以及按压机构,夹着与面法线垂直的第1剖面,从两侧以预定的按压力按压光学元件。
技术领域
本发明涉及保持装置。
背景技术
作为检查搭载于曝光装置的光学元件的光学性能的工序,可以举出:检查光学元件单体的光学性能的工序;检查组装有该光学元件的光学组件的光学性能的工序;以及检查搭载有该光学组件的曝光装置的光学性能的工序。
而且,在上述各工序中,要求使光学元件的光学性能再现,特别是在各工序中,需要注意防止产生与由在保持装置保持光学元件时在光学面上发生的局部应力引起的形状变化相伴的光学性能的变化。
日本特开2009-288571号公报公开一种保持光学元件的保持装置,设置有:光学元件托件,在包含重力方向分量的第1方向上承受光学元件;以及光学元件支件,向与重力方向及第1方向垂直的第2方向按压。
在日本特开2009-288571号公报公开的保持装置中,能够通过在光学元件与光学元件托件之间发生的摩擦力以及由光学元件支件产生的按压力,在充分保持刚性的状态下保持光学元件。
然而,在日本特开2009-288571号公报公开的保持装置中,每当在上述各工序中保持光学元件时的姿势发生变化时,由于在光学面上产生的局部应力发生变化,形状、乃至光学性能也发生变化。
因此,本发明的目的在于提供一种能够以再现光学面的形状的方式保持光学元件的保持装置。
发明内容
本发明涉及的保持装置,以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式,保持该光学元件,其特征在于,具备:保持光学元件的台座及载置该台座的载置台,该台座及该载置台相互针对的接触面的一方是曲面;以及按压机构,夹着与面法线垂直的第1剖面,从两侧以预定的按压力按压光学元件。
附图说明
图1A是第一实施方式所涉及的光学元件保持装置的正面图。
图1B是第一实施方式所涉及的光学元件保持装置的沿着图1A的A-A线的剖面图。
图2是示出在第一实施方式所涉及的光学元件保持装置中在光学元件中发生的局部应力被去除的样子的图。
图3A是第一实施方式所涉及的光学元件保持装置具备的按压机构的详细图。
图3B是第一实施方式所涉及的光学元件保持装置具备的按压机构的详细图。
图4是第一实施方式的变形例所涉及的光学元件保持装置具备的按压机构的详细图。
图5是第二实施方式所涉及的光学元件保持装置具备的按压机构的详细图。
图6是第二实施方式的变形例所涉及的光学元件保持装置具备的定位装置的示意图。
图7是第三实施方式所涉及的光学元件保持装置具备的按压机构的详细图。
图8是实施方式所涉及的曝光装置的结构图。
图9A是以往的光学元件保持装置的示意图。
图9B是以往的光学元件保持装置的示意图。
具体实施方式
以下,根据附图详细说明本实施方式所涉及的光学元件保持装置。此外,在以下所示的附图中,为了能够容易地理解本实施方式,以与实际不同的缩尺进行描绘。
[第一实施方式]
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