[发明专利]保持装置、曝光装置、物品制造方法在审

专利信息
申请号: 202010587042.5 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN112147855A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 中岛猛;羽切正人;辻穣 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/00
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 程晨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 保持 装置 曝光 物品 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种保持装置,以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式,保持该光学元件,其特征在于,具备:

保持所述光学元件的台座及载置该台座的载置台,该台座及该载置台相互针对的接触面的一方是曲面;以及

按压机构,夹着与所述面法线垂直的第1剖面,从两侧以预定的按压力按压所述光学元件。

2.根据权利要求1所述的保持装置,其特征在于,

所述曲面是圆柱面。

3.根据权利要求1所述的保持装置,其特征在于,

所述台座的针对所述光学元件的接触面是平面。

4.根据权利要求1所述的保持装置,其特征在于,

具备定位部件,该定位部件用于决定所述光学元件的所述面法线的方向上的位置。

5.根据权利要求1所述的保持装置,其特征在于,

所述按压机构具有生成按压力的弹簧部件、和调整该弹簧部件的压缩量的调整部件。

6.根据权利要求5所述的保持装置,其特征在于,

所述按压机构具有方向变换机构,该方向变换机构变换由所述弹簧部件生成的按压力的方向。

7.根据权利要求1所述的保持装置,其特征在于,

所述保持装置将所述光学元件保持成使所述面法线与重力方向垂直。

8.根据权利要求1所述的保持装置,其特征在于,

所述载置台包括两个倾斜部,所述两个倾斜部相互夹着包括所述面法线、且与重力方向平行的第2剖面而设置,

该倾斜部的针对所述台座的接触面的法线在所述第1剖面内相对重力方向形成45度。

9.一种曝光装置,以使用来自光源的曝光用光将形成于原版的图案转印到涂敷于基板上的感光材料的方式,对所述感光材料进行曝光,所述曝光装置的特征在于,具备:

原版载置台,载置所述原版;

基板载置台,载置所述基板;

照明光学系统,将来自所述光源的曝光用光聚光到所述原版上;以及

投影光学系统,将透射所述原版的曝光用光聚光到所述基板上,

所述照明光学系统以及所述投影光学系统所包含的至少一个光学元件通过权利要求1至8中的任意一项所述的保持装置来保持。

10.一种物品制造方法,其特征在于,包括:

使用权利要求9所述的曝光装置对基板进行曝光的步骤;以及

对在该曝光的步骤中曝光的所述基板进行显影的步骤,

利用在所述显影的步骤中显影的所述基板,制造物品。

11.一种在以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式保持该光学元件的保持装置中保持光学元件的方法,其特征在于,包括:

一边夹着与所述面法线垂直的第1剖面从两侧按压所述光学元件,一边将所述光学元件载置到所述保持装置的步骤;

解除所述光学元件的一侧的所述按压的步骤;

以预定的按压力按压所述光学元件的所述一侧的步骤;

解除所述光学元件的另一侧的所述按压的步骤;以及

以预定的按压力按压所述光学元件的所述另一侧的步骤。

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