[发明专利]薄膜的制造方法

说明书

本发明的课题在于提供一种薄膜的制造方法，在薄膜上形成图案时，能够防止应用的掩模部件在干蚀刻时的掩模的磨损或缺损，并且能够以高精度形成具有微细结构的细孔的薄膜。本发明的薄膜的制造方法是具有细孔的薄膜的制造方法，其特征在于，在基板上形成薄膜之后，在该薄膜上依次层叠至少由自组织化材料构成的第一掩模和与所述第一掩模相比对反应性蚀刻处理或物理蚀刻处理具有耐性的第二掩模，通过干蚀刻处理在所述薄膜上形成细孔。

技术领域

本发明涉及薄膜的制造方法，更详细地说，涉及使用耐蚀刻性优异的第一掩模以及第二掩模且具有高品质的细孔的薄膜的制造方法。

背景技术

近年来，作为车辆的驾驶辅助，在车辆上搭载车载摄像头。更具体地说，将对车辆的后方、侧方进行拍摄的摄像头搭载于汽车的车身，通过将由该摄像头拍摄到的图像显示在驾驶员能够目视确认的位置来减少死角，由此能够有助于安全驾驶。

然而，车载摄像头大多安装在车外，对于所使用的透镜，对耐环境性的保证要求严格。例如，当作为位于透镜表面的防反射层的主成分的二氧化硅(以下，记为SiO₂)溶解于盐水而使得光反射率发生变化时，成为重影、光斑的产生原因。

另外，在该透镜上常常附着水滴、泥等污垢。根据附着于透镜的水滴的程度，由摄像头拍摄到的图像有可能变得不清晰。因此，要求防反射层的最表层能够长期维持超亲水性。

并且，对于泥等污垢，防反射层优选体现光催化效果并具有自清洁性。

为了解决这些问题，例如，在日本特开平10-36144号公报中，如下的方法是已知的：制作基板/电介质多层膜(防反射层)/TiO₂含有层(光催化剂层)/SiO₂含有层的层叠体，在SiO₂层上形成金属掩模之后，通过蚀刻法在SiO₂层上开设原子水平的孔，形成用于将来自TiO₂含有层的光催化功能取出到表面的通孔(以下，“也称为细孔”)。例如，作为用于在SiO₂层上形成特定图案的方法的掩模的形成方法，不需要特定的曝光，作为使用真空蒸镀装置形成微细结构的掩模的方法，使用自组织化膜的方法是已知的。例如，有如下方法：作为金属成分而使用银，在SiO₂层上形成具有颗粒状、叶脉状或多孔状的图案的金属掩模，从金属掩模上表面实施干蚀刻处理，从而在SiO₂层中形成用于取出TiO₂含有层的光催化功能的通孔。

但是，在上述方法中，由于大多数金属掩模的耐蚀刻性低，因此，在蚀刻处理时，存在金属掩模受到损伤、蚀刻精度降低、难以形成具有所希望的形状的通孔的问题。

针对上述问题，例如，在专利文献1中，公开了使用通过嵌段共聚物的自组织化而得到的蚀刻掩模的图案形成方法。另外，在专利文献2中，也公开了作为掩模而使用能够自组织化的嵌段聚合物-共聚物的第一聚合物以及第二聚合物来形成周期图案的方法。

但是，在上述公开的任一种方法中，为了形成所希望的微细结构，针对掩模的蚀刻处理的耐性不够，在形成高品质的通孔方面存在问题。

因此，希望开发一种耐蚀刻性优异且不需要曝光工艺就能够以高精度形成微细结构的掩模技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-43873号公报

专利文献2：日本特开2013-207089号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明鉴于上述问题和状况而作出，其要解决的课题在于提供一种薄膜的制造方法，在薄膜上形成图案时，能够防止应用的掩模部件在干蚀刻时的掩模的磨损或缺损，并且能够以高精度制造具有微细结构的细孔的薄膜。