[发明专利]一种图案化方法及利用该方法制作的层叠体

权利要求书

1.一种图案化方法，其特征在于，包括：

在基材层之上依次形成蚀刻保护层和目标印刷层；

对所述目标印刷层进行图案化蚀刻，得到图案化的目标印刷层；其中，控制所述图案化蚀刻穿透所述目标印刷层到达所述蚀刻保护层，且未穿透所述蚀刻保护层；

清除未被所述图案化的目标印刷层所覆盖的蚀刻保护层。

2.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于，在所述蚀刻保护层之上形成所述目标印刷层之前，还包括：

消除或减薄所述蚀刻保护层上与所述图案化的目标印刷层的相对的区域。

3.根据权利要求2所述的图案化方法，其特征在于，所述消除或减薄所述蚀刻保护层上与所述图案化的目标印刷层的相对的区域，具体包括：

通过第一激光对所述蚀刻保护层进行图案化蚀刻，减薄所述蚀刻保护层上与所述图案化的目标印刷层的相对的区域；其中，所述第一激光的能量密度不高于所述蚀刻保护层的蚀刻门槛值，使所述图案化的蚀刻保护层的厚度低于初始的蚀刻保护层的厚度。

4.根据权利要求2所述的图案化方法，其特征在于，与所述图案化的目标印刷层的相对的区域内的部分所述蚀刻保护层被清除和/或减薄，得到表面不平整的部分蚀刻保护层；所述目标印刷层形成在所述表面不平整的部分蚀刻保护层之上。

5.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于，所述对所述目标印刷层进行图案化蚀刻，得到图案化的目标印刷层；其中，控制所述图案化蚀刻穿透所述目标印刷层到达所述蚀刻保护层，且未穿透所述蚀刻保护层，具体包括：

通过第二激光对所述目标印刷层进行图案化蚀刻，得到图案化的目标印刷层；其中，所述第二激光的能量密度不低于所述目标印刷层的蚀刻门槛值、不高于所述目标印刷层与所述蚀刻保护层的蚀刻门槛值之和。

6.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于，所述蚀刻保护层选用在光照、高温或溶剂的条件下可清除的材料。

7.根据权利要求6所述的图案化方法，其特征在于，所述蚀刻保护层选用水溶性胶材。

8.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于，所述目标印刷层为由导电浆料形成的导电层。

9.根据权利要求1所述的图案化方法，其特征在于，所述基材层为透光材质。

10.一种层叠体，其特征在于，通过权利要求1-9中任一项所述的图案化方法获得。