[发明专利]曝光装置及物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，对基板进行曝光，该曝光装置的特征在于，具有：

投影光学系统，其将掩模的图案投影到所述基板；

供给部，其将混合气体供给到所述投影光学系统的内部的光学元件间的空间，所述混合气体是将折射率互不相同的多种气体以作为设定混合比的预先设定的混合率来混合而得的；以及

控制部，其通过控制所述设定混合比来对所述投影光学系统的成像特性进行校正并对所述基板进行曝光，

所述控制部获取如下响应特性，该响应特性表示由所述供给部以固定的混合比来供给混合气体时的所述成像特性的演变，

所述控制部在将所述设定混合比设定为目标混合比并对所述基板进行曝光时，在所述成像特性转变为稳定状态之前的过渡期间中，所述控制部将所述设定混合比设定为基于所述响应特性对所述目标混合比进行校正而得的值并对所述基板进行曝光。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

在所述过渡期间经过后，所述控制部将所述设定混合比设定为所述目标混合比并对所述基板进行曝光。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

还具有调整部，该调整部调整所述成像特性，

所述控制部通过控制所述设定混合比，来对多个像差分量中的作为所述成像特性的第一像差分量进行校正，

与在所述过渡期间中由所述控制部变更了所述设定混合比的情形相应地，所述调整部对所述第一像差分量以外的作为所述成像特性的其他像差分量进行校正。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，还具有：

掩模台，其保持所述掩模；以及

基板台，其保持所述基板，

所述调整部通过进行对所述投影光学系统的光学元件的驱动、对所述掩模台的驱动以及对所述基板台的驱动中的至少一者，来调整所述成像特性。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

当对所述其他像差分量的校正量超出所述调整部的可校正范围时，所述控制部停止对所述基板的曝光，直至所述调整部能够进行校正为止。

6.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述成像特性包括球面像差、倍率像差、畸变像差、像场弯曲、像散、彗形像差中的至少一者。

7.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一像差分量是球面像差，所述其他像差分量是倍率像差以及畸变像差。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

所述响应特性包括分别与球面像差、倍率像差以及畸变像差相关的响应特性。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述多种气体是从氦气、氮气、氧气、二氧化碳、干燥空气中选择的多种气体。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

还具有气压计，该气压计测量设置有所述投影光学系统的空间的大气压，

所述控制部基于由所述气压计测量出的大气压的值，求出因大气压的变化的影响而产生的所述成像特性的变化量，基于该变化量求出对所述成像特性的校正量。

11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

还具有检测器，该检测器检测透射所述投影光学系统的光，

所述控制部利用所述检测器求出因所述投影光学系统吸收曝光能量而产生的所述成像特性的变化量，基于该变化量求出对所述成像特性的校正量。

12.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

使用根据权利要求1至11中的任意一项所述的曝光装置来对基板进行曝光的工序；以及

对被曝光了的所述基板进行显影的工序，

其中，从显影了的所述基板制造物品。