[发明专利]光照射装置、光照射方法和存储介质

权利要求书

1.一种光照射装置，其特征在于，包括：

收纳基片的处理室；

收纳能量射线的射线源的线源室；

将所述处理室与所述线源室分隔开的分隔壁；

多个窗部，其设置在所述分隔壁，能够使从所述射线源向所述处理室内的所述基片出射的能量射线透射；和

多个气体释放部，其分别设置在所述处理室内的所述多个窗部的周围，沿所述多个窗部的表面释放非活性气体。

2.如权利要求1所述的光照射装置，其特征在于：

所述多个气体释放部分别以包围所述多个窗部的任一个窗部的方式设置，并将所述非活性气体以从所述窗部的外周向中心去的方式释放。

3.如权利要求2所述的光照射装置，其特征在于：

所述多个气体释放部分别具有：

以包围所述窗部的表面的方式设置在分隔壁的包围部；

以包围所述窗部的表面的方式设置在所述包围部内的缓冲空间；和

隙缝，其沿着所述窗部的表面的外周在所述包围部的内周面具有开口，以从所述缓冲空间内向所述窗部的中心导出所述非活性气体。

4.如权利要求3所述的光照射装置，其特征在于：

还包括向所述线源室供给所述非活性气体的气体供给部，

所述多个气体释放部分别还具有设置在所述分隔壁的通气孔，以从所述线源室向所述缓冲空间导入所述非活性气体。

5.如权利要求3所述的光照射装置，其特征在于，还包括：

沿着所述分隔壁设置的、向所述多个气体释放部的所述缓冲空间供给所述非活性气体的至少一个气体流路；和

向所述气体流路供给所述非活性气体的气体供给部。

6.如权利要求5所述的光照射装置，其特征在于：

所述多个气体释放部分别具有：作为所述缓冲空间的第1缓冲空间；和以包围所述第1缓冲空间的方式形成在所述包围部内的第2缓冲空间，

所述气体流路至少在一个部位与所述第2缓冲空间连接，

所述第1缓冲空间与所述第2缓冲空间在包围所述窗部的表面的多个部位彼此连接。

7.如权利要求2～6中任一项所述的光照射装置，其特征在于：

还包括排气部，其将从所述多个气体释放部的每一个汇集到所述窗部的中心的所述非活性气体引导至所述处理室内的所述基片侧，并将该非活性气体排出到所述处理室外。

8.一种光照射方法，其特征在于，包括：

通过将收纳基片的处理室与收纳能量射线的射线源的线源室分隔开的分隔壁上所设置的多个窗部，从所述射线源向所述处理室内的所述基片照射能量射线的步骤；和

至少在所述基片被照射所述能量射线的期间，从分别设置在所述处理室内的所述多个窗部的周围的多个气体释放部，分别沿着所述多个窗部的表面释放非活性气体的步骤。

9.一种计算机可读取的存储介质，其特征在于：

存储有用于使装置执行权利要求8所述的光照射方法的程序。