[发明专利]一种提高高效晶硅异质结太阳能电池短路电流的方法在审
申请号: | 202010545183.0 | 申请日: | 2020-06-16 |
公开(公告)号: | CN111739986A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 凌俊;郭小勇;易治凯 | 申请(专利权)人: | 江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20;H01L31/0747;H01L31/0236 |
代理公司: | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 | 代理人: | 张晓斐 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 高效 晶硅异质结 太阳能电池 短路 电流 方法 | ||
本发明涉及的一种提高高效晶硅异质结太阳能电池短路电流的方法,它包括以下内容:先对N型硅衬底进行制绒、清洗处理:进料后,先经过预清洗把硅片表面的有机物等污染物清除,再通过粗抛把切割损伤层去除,水洗后再制绒,再水洗然后碱洗,再经过两道水洗和酸洗,最后烘干后出料;通过慢沉积的PECVD制备双面本征非晶硅层;沉积功率为18~20 mW/cm²,沉积速率为2~3A/s。本发明的清洗制绒省去修正步骤,不对金字塔绒面进行圆润修饰,从而降低硅片表面反射率,同时PECVD沉积非晶硅薄膜工艺采用慢沉积方法,短路电流有明显提升,从而提升电池的光电转换效率。
技术领域
本发明涉及光伏高效电池技术领域,尤其涉及一种提高高效晶硅异质结太阳能电池短路电流的方法。
背景技术
随着光伏技术的快速发展,晶体硅太阳电池的转换效率逐年提高。在当前光伏工业界,单晶硅太阳电池的转换效率已达到20%以上,多晶硅太阳电池的转换效率已达18.5%以上。然而大规模生产的、转换效率达22.5%以上的硅基太阳电池仅美国SunPower公司的背接触太阳电池(Interdigitated Back Contact,IBC)和日本松下公司的带本征薄层的非晶硅/晶体硅异质结太阳电池(Hetero-junction with Intrinsic Thin layer,HJT)。和IBC太阳电池相比,HJT电池具有能耗少、工艺流程简单、温度系数小等诸多优点,这些也是HJT太阳能电池能从众多高效硅基太阳电池方案中脱颖而出的原因。
当前,我国正在大力推广分布式太阳能光伏发电,由于屋顶资源有限,而且分布式光伏发电需求高转换效率的太阳电池组件,正是由于HJT太阳电池具有高效、双面发电的优势,在分布式光伏电站中表现出广阔的应用前景。
其中硅基异质结(HJT)太阳电池的高转化效率、高开路电压、低温度系数、无光致衰减(LID)、无电致衰减(PID)、低制程工艺温度等优势成为了最热门研究方向之一。
HJT太阳电池制备过程中,制绒清洗是第一道工序,为PECVD制备良好的非晶硅层提供洁净的晶硅表面,所以制绒清洗对于HJT电池的转换效率有巨大的影响,其中水洗方式对于电池的效率的高低和稳定性至关重要。参见图1,目前HJT的清洗制绒的主流工艺流程如下,先经过预清洗把硅片表面的有机物等污染物清除,再通过粗抛把切割损伤层去除,再制绒形成“金字塔”绒面,起到降低反射率,提高陷光效果的目的,在通过后续酸碱洗完成整个制绒清洗工艺流程。其中,有一步是修正,修正指的是通过HF/HNO3或者HF/O3或者KOH等体系能对硅进行化学腐蚀的方式,其目的是使尖锐的金字塔通过化学腐蚀变得圆润,参见图2,从而有利于下一道工序CVD沉积的非晶硅薄膜更加均匀,但是带来的问题是反射率会上升0.5%以上,导致HJT电池的短路电流降低。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足,提供一种提高高效晶硅异质结太阳能电池短路电流的方法,改善短路电流来提高HJT电池的转换效率,提升异质结太阳能电池性能。
本发明的目的是这样实现的:
一种提高高效晶硅异质结太阳能电池短路电流的方法,它包括以下内容:(1)对尺寸为156.75mm、厚度为180um的N型硅衬底进行制绒、清洗处理;(2)通过PECVD制备双面本征非晶硅层;(3)选取N型非晶硅膜为受光面掺杂层,使用等离子体增强化学气相沉积制备n型非晶硅掺杂层;(4)使用等离子体化学气相沉积制备p型非晶硅掺杂层;(5)使用PVD、RPD方法沉积TCO导电膜;(6)通过丝网印刷形成正背面Ag电极;(7)固化使得银栅线与TCO导电膜之间形成良好的欧姆接触;(8)进行测试电池的电性能;进料后,先经过预清洗把硅片表面的有机物等污染物清除,再通过粗抛把切割损伤层去除,水洗后再制绒,再水洗然后碱洗,再经过两道水洗和酸洗,最后烘干后出料。
进一步地,PECVD制备双面本征非晶硅层的沉积功率为18~20 mW/cm²,沉积速率为2~3A/s。
进一步地,所述非晶硅本征层(2)厚度为5~10nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司,未经江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010545183.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的