[发明专利]显示面板、显示设备及显示面板的制备方法

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供阵列基板，所述阵列基板包括衬底和阵列层；

在所述阵列基板上形成预制孔，所述预制孔至少贯穿所述阵列层且深至所述衬底；

在所述阵列基板上形成发光器件层，其中，所述发光器件层在所述预制孔处形成段差，对应所述预制孔区域的所述发光器件层材料沉积在所述预制孔中；

在所述发光器件层上形成封装层，所述封装层覆盖所述发光器件层和所述预制孔；

对所述衬底进行减薄处理，去除形成在所述预制孔内的所述发光器件层材料，以在所述显示面板上形成贯穿所述阵列基板和所述发光器件层的透光孔。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述 发光器件层上形成封装层的步骤之前，还包括：

在所述预制孔内填充透光材料，以形成透光材料层，其中，所述透光材料层远离所述衬底的表面至少与所述发光器件层远离所述衬底的表面平齐。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上形成所述阵列基板，在所述阵列基板上形成预制孔，所述预制孔为贯穿所述阵列层和所述衬底的通孔；

在所述阵列基板上形成所述发光器件层，其中，所述预制孔内的所述发光器件层材料形成在所述玻璃载板上；

剥离所述玻璃基 板，以去除形成在所述玻璃载板上的所述发光器件层材料；

对所述衬底进行减薄处理，同时去除残留在所述衬底上的所述发光器件层材料。

4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

利用激光镭射技术对所述衬底进行减薄处理。

5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述预制孔为贯穿所述阵列层且深至但并未贯穿所述衬底的盲孔，所述制备方法包括：

在所述阵列基板上形成发光器件层，其中，所述预制孔内的所述发光器件层材料形成在所述衬底上；

对所述衬底进行减薄处理，以去除形成在所述衬底上的所述发光器件层材料。

6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述阵列基板上形成预制孔的步骤，包括：

利用激光蚀刻或干蚀刻技术在所述阵列基板上形成所述预制孔，所述预制孔为贯穿所述阵列层和所述衬底的通孔或贯穿所述阵列层且深至但并未贯穿所述衬底的盲孔。

7.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板，包括衬底和阵列层；

发光器件层，位于所述阵列层远离所述衬底的一侧；

封装层，位于所述发光器件层远离所述衬底的一侧；

所述显示面板包括透光区，所述透光区具有至少一个贯穿所述阵列基板和所述发光器件层且未深及所述封装层的透光孔；

其中，所述显示面板是利用如权利要求1-6任一项所述的显示面板的制备方法制备而成。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，

所述透光孔内填充有透光材料层_。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述透光材料层远离所述衬底的表面至少与发光器件层远离所述衬底的表面平齐。

10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述透光材料层的形成材料包括透光有机材料。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，

所述透光有机材料包括墨水、透明聚酰亚胺材料。

12.一种显示设备，其特征在于，包括：

如权利要求7-11任一项所述的显示面板；

功能器件，位于所述显示面板下方，且与所述透光区相对应。