[发明专利]显示面板及显示面板制作方法在审
| 申请号: | 202010541588.7 | 申请日: | 2020-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN111710699A | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
| 发明(设计)人: | 徐乾坤;张晓星 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
| 地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示 面板 制作方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底基板;
薄膜晶体管层,设置于所述衬底基板上,包括多个薄膜晶体管;
发光层,设置于所述薄膜晶体管层上,与所述薄膜晶体管层之间电性连接,所述发光层包括堤坝区和凹坑区,所述凹坑区内设置有发光结构和彩色滤光层,所述彩色滤光层设置于所述发光结构上;
盖板层,设置于所述发光层上。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述堤坝区由黑色遮光材料制作而成。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述堤坝区的顶层设置有黑色遮光层。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光结构包括第一电极、设置于所述第一电极上的有机功能层、以及设置于所述有机功能层上的第二电极,在所述凹坑区内,所述第一电极、所述有机功能层和所述第二电极之间直接电性接触。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述彩色滤光层包括多种颜色的彩色滤光块,每一个所述凹坑区内设置一个所述彩色滤光块。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,每一个所述彩色滤光块完全填充一个所述凹坑区,所述彩色滤光块突出所述凹坑区而向所述凹坑区四周延伸,且任意相邻两个所述彩色滤光块不相连。
7.一种显示面板制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
在一衬底基板上制作薄膜晶体管层;
在所述薄膜晶体管层上制作发光层,所述发光层包括堤坝区和凹坑区,所述凹坑区内设置有发光结构;
在所述凹坑区内的所述发光结构上制作彩色滤光层;
在所述发光层上安装盖板层。
8.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,制作所述发光层的方法包括以下步骤:
在所述薄膜晶体管层上制作第一电极;
使用黑色遮光材料制作覆盖所述薄膜晶体管层和所述第一电极的原始遮光层;
对所述原始遮光层进行开孔操作,开孔区域形成所述凹坑区,未开孔区域形成所述堤坝区,并使至少部分所述第一电极通过所述凹坑区暴露;
在所述凹坑区内的所述第一电极上制作有机功能层;
在所述有机功能层上制作第二电极,所述第二电极至少覆盖所述凹坑区,所述第一电极、所述有机功能层及所述第二电极在所述凹坑区内直接电性接触,并形成所述发光结构。
9.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,制作所述发光层的方法包括以下步骤:
在所述薄膜晶体管层上制作第一电极;
制作覆盖所述薄膜晶体管层和所述第一电极的原始像素层;
使用黑色遮光材料在所述原始像素层上制作原始遮光层;
对所述原始像素层和所述原始遮光层共同进行开孔操作,开孔区域形成所述凹坑区,未开孔区域形成所述堤坝区,并使至少部分所述第一电极通过所述凹坑区暴露;
在所述凹坑区内的所述第一电极上制作有机功能层;
在所述有机功能层上制作第二电极,所述第二电极至少覆盖所述凹坑区,所述第一电极、所述有机功能层及所述第二电极在所述凹坑区内直接电性接触,并形成所述发光结构。
10.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,制作所述彩色滤光层的方法是:
采用喷墨打印工艺在每个所述凹坑区内的所述发光结构上制作一个彩色滤光块,所有的所述彩色滤光块共同形成所述彩色滤光层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





