[发明专利]金属掩膜板

说明书

本申请提供一种金属掩膜板，包括：掩膜板本体及形成于掩模板本体上的多个蒸镀孔；掩膜板本体具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，每个蒸镀孔均包括第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽均沿着掩膜板本体的厚度方向设置且相互连通，第一凹槽的其中一端与玻璃面齐平，第一凹槽的另一端与第二凹槽的其中一端相连，第二凹槽的另一端与蒸镀面齐平；其中，第一凹槽的侧壁与所述玻璃面的夹角在90°以下。在本申请提供的金属掩膜板中，通过调整蒸镀孔在玻璃面的开孔形状，避免蒸镀口的内壁遮挡有机材料，进而扩大蒸镀的有效膜宽，同时避免像素的边缘出现阴影区域，使得像素内有效发光区的蒸镀位置的公差范围更大，进而提高蒸镀的良率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种金属掩膜板。

背景技术

在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板可以控制有机材料沉积在屏体上的位置，从而在屏体上形成不同的有机图案。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(英文全称Common Metal Mask，简称CMM)及精密金属掩膜板(英文全称FineMetal Mask，简称FMM)，其中通用金属掩膜板主要用于蒸镀共通层，精密金属掩膜板也称为高精密金属掩膜板，主要用于蒸镀发光层。

在蒸镀之前，需要将掩模板拉网固定到掩模框上，拉网固定之后所述掩模板具有一定的张力。在蒸镀时，所述掩模板与基板固定，基板的被蒸镀面与蒸镀源相对，来自蒸镀源的蒸镀颗粒(成膜材料)通过所述掩模板的开口蒸镀在被蒸镀面上。

在实际蒸镀过程中发现，由于精密金属掩膜板的工艺参数以及张网精度的范围太宽，因此发光层的蒸镀存在局部点位偏移，或者个别点位缺色的问题。采用现有的精密金属掩膜板进行发光层的蒸镀，蒸镀良率较低。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种金属掩膜板，以解决现有技术中发光层的蒸镀存在局部点位偏移，或者个别点位缺色而影响蒸镀良率的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供的一种金属掩膜板，所述金属掩膜板包括：掩膜板本体及形成于所述掩模板本体上的多个蒸镀孔；

所述掩膜板本体具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，所述多个蒸镀孔呈阵列方式排列并贯穿所述玻璃面和蒸镀面；

每个蒸镀孔均包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽均沿着所述掩膜板本体的厚度方向设置且相互连通，所述第一凹槽的其中一端与所述玻璃面齐平，所述第一凹槽的另一端与所述第二凹槽的其中一端相连，所述第二凹槽的另一端与所述蒸镀面齐平；

其中，所述第一凹槽的侧壁与所述玻璃面的夹角在90°以下。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述第一凹槽的深度在5μm以下。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述第一凹槽的深度在3μm以下。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述掩膜板本体的厚度范围在15μm到30μm之间。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述蒸镀孔的第一凹槽和第二凹槽的截面均为轴对称结构，且所述轴对称结构的对称轴与所述蒸镀孔的中心轴线重合。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述第一凹槽和第二凹槽均由蚀刻成型工艺制成。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述第一凹槽的侧壁与所述玻璃面的夹角范围在60°到90°之间。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述第二凹槽的截面为曲线，且所述第二凹槽的侧壁与所述蒸镀面的夹角在90°以上。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述曲线两端的连线与所述蒸镀面所在平面之间的夹角为蒸镀角，所述蒸镀角在55°以下。

可选的，在所述的金属掩膜板中，所述蒸镀孔在玻璃面的开口尺寸小于所述蒸镀孔在蒸镀面的开口尺寸。