[发明专利]一种超薄镀膜光学晶圆及其制备方法

说明书

本发明提供一种超薄镀膜光学晶圆及其制备方法，所述的光学晶圆包括一个超薄光学晶圆和镀制在超薄光学晶圆两个表面上的光学薄膜；通过将光学薄膜镀制在超薄光学晶圆的两个表面，形成超薄镀膜光学晶圆，能够降低对IR截止膜的透过率特性要求，缩短成膜时间；减薄单面镀膜的膜层厚度。光学晶圆的制备方法，在超薄光学晶圆的两个表面镀制一层或若干层光学薄膜，得到超薄镀膜光学晶圆，两面的光学膜层具有不同的分光性能，不同分光性能的膜层互相补偿，相同或者相近膜层设计叠加，可以达成膜层的总体分光性能。

技术领域

本发明涉及光学薄膜设计及镀制技术领域，具体为一种超薄镀膜光学晶圆及其制备方法。

背景技术

光学薄膜镀制是指在光学晶圆表面上镀上一层或多层金属薄膜或介质薄膜的工艺过程。在光学晶圆表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。

当前，超薄光学晶圆上镀制光学薄膜的工艺都是在超薄晶圆的一面镀制光学薄膜，得到超薄镀膜光学晶圆，但这种镀制方法对光学薄膜的特性要求非常高。以IR截止膜为例，IR截止膜是阻止红外波段透过的光学薄膜，镀制IR截止膜是包括光学晶圆的光学成像产品要求，不需要近红外波段的光线透过光学系统成像，即仅需可见光成像。

如图1所示，如果仅在超薄光学晶圆一面镀制IR截止膜，不但IR截止膜的IR截止率要求高，如需在380～630nm具有高透过率，在650～1200nm具有高截止率，具体在650～1200nm的红外波段的透过率低于0.01％，膜层设计较困难，而且单面IR截止膜较厚，成膜时间长，镀制完成后容易造成晶圆翘曲过大，可能会造成晶圆破裂进而影响后续工艺。此外，单面IR截止膜红光反射过大会造成膜层视觉上的红色，进而无法满足产品需要。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明提供一种超薄镀膜光学晶圆及其制备方法，薄膜设计简单，并且能够减小或消除超薄光学晶圆的翘曲。

本发明是通过以下技术方案来实现：

一种超薄镀膜光学晶圆，包括一个超薄光学晶圆和镀制在超薄光学晶圆两个表面上的光学薄膜。

优选的，所述的光学薄膜为IR截止膜。

优选的，所述的超薄镀膜光学晶圆在380nm～630nm的可见光波段内平均透过率≥90％。

优选的，所述的超薄镀膜光学晶圆在650nm～1200nm的可见光和近红外波段内平均透过率≤0.01％。

优选的，所述光学薄膜在超薄光学晶圆两个表面的厚度差在1um以内。

一种超薄镀膜光学晶圆的制备方法，在超薄光学晶圆的两个表面镀制一层或若干层光学薄膜，得到超薄镀膜光学晶圆。

进一步，先在超薄光学晶圆的一个表面镀制一层或若干层光学薄膜，镀制完成后清洗或者在真空环境下翻转，之后在超薄光学晶圆的另一个表面镀制一层或若干层光学薄膜，得到超薄镀膜光学晶圆。

进一步，在超薄光学晶圆的两个表面同时开始镀制光学薄膜。

进一步，在超薄光学晶圆的两个表面镀制光学薄膜后，光学薄膜在超薄光学晶圆两个表面的厚度差在1um以内。

进一步，在超薄光学晶圆的两个表面镀制10～100层光学薄膜。

与现有技术相比，本发明具有以下有益的技术效果：