[发明专利]一种超薄镀膜光学晶圆及其制备方法在审
| 申请号： | 202010514934.2 | 申请日： | 2020-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN111580193A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 王林;李菲;李延凯 | 申请（专利权）人： | 华天慧创科技(西安)有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/10;C23C14/58;C23C14/22;C23C14/02 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 姚咏华 |
| 地址： | 710018 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 镀膜 光学 及其 制备 方法 | ||
1.一种超薄镀膜光学晶圆，其特征在于，包括一个超薄光学晶圆和镀制在超薄光学晶圆两个表面上的光学薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种超薄镀膜光学晶圆，其特征在于，所述的光学薄膜为IR截止膜。
3.根据权利要求1所述的一种超薄镀膜光学晶圆，其特征在于，所述的超薄镀膜光学晶圆在380nm～630nm的可见光波段内平均透过率≥90％。
4.根据权利要求1所述的一种超薄镀膜光学晶圆，其特征在于，所述的超薄镀膜光学晶圆在650nm～1200nm的可见光和近红外波段内平均透过率≤0.01％。
5.根据权利要求1所述的一种超薄镀膜光学晶圆，其特征在于，所述光学薄膜在超薄光学晶圆两个表面的厚度差在1um以内。
6.一种超薄镀膜光学晶圆的制备方法，其特征在于，在超薄光学晶圆的两个表面镀制一层或若干层光学薄膜，得到超薄镀膜光学晶圆。
7.根据权利要求6所述的一种超薄镀膜光学晶圆的制备方法，其特征在于，先在超薄光学晶圆的一个表面镀制一层或若干层光学薄膜，镀制完成后清洗或者在真空环境下翻转，之后在超薄光学晶圆的另一个表面镀制一层或若干层光学薄膜，得到超薄镀膜光学晶圆。
8.根据权利要求6所述的一种超薄镀膜光学晶圆的制备方法，其特征在于，在超薄光学晶圆的两个表面同时开始镀制光学薄膜。
9.根据权利要求6所述的一种超薄镀膜光学晶圆的制备方法，其特征在于，在超薄光学晶圆的两个表面镀制光学薄膜后，光学薄膜在超薄光学晶圆两个表面的厚度差在1um以内。
10.根据权利要求6所述的一种超薄镀膜光学晶圆的制备方法，其特征在于，在超薄光学晶圆的两个表面镀制10～100层光学薄膜。
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