[发明专利]微晶釉、耐磨釉、透明微晶耐磨全抛釉瓷砖及制备方法

说明书

本发明涉及透明微晶釉、耐磨透明釉、透明微晶耐磨全抛釉瓷砖及制备方法，透明微晶釉按重量份：烧氧化锌5份；碳酸钡5份；钾长石18份；钠长石9份；氧化铝8份；方解石16份；石英粉4份；白云石6份；高岭土10份；煅烧高岭土12份；硅灰石5份；氟化钙1份；钛白粉1份。透明微晶耐磨全抛釉瓷砖的制备方法，包括：⑴坯体压制；⑵施/不施底釉；⑶釉线干燥或不干燥：⑷进行包括平板、胶辊、喷墨等综合组合装饰；⑸釉线干燥或不干燥；⑹施透明微晶釉；⑺淋/喷耐磨透明釉；⑻入窑烧成；⑼釉面抛光。

技术领域

本发明涉及陶瓷砖技术领域，特别涉及一种透明微晶釉、耐磨透明釉、透明微晶耐磨全抛釉瓷砖及制备方法。

背景技术

全抛釉陶瓷砖因其花色细腻，纹理清晰，色彩绚丽，兼具抛光砖和釉面砖两者的优点，投放市场以来一直供不应求，深受消费者的喜爱。全抛釉陶瓷砖虽然特点突出，但在某些方面还是存在一定的不足，比如表面过于光滑、釉层不耐磨、不够硬容易产生划痕(维氏硬度普遍低于600HV0.5)等。其中釉面容易磨损、产生划痕对装饰效果的影响最大，为此行业技术人员在其釉面硬度方面做了许多研究，如CN110790510A发明专利公开了一种耐磨高硬度陶瓷釉料及其制备方法、CN106966598B公开了一种低温高硬度高耐磨全抛釉及其制备方法、CN107417115B发明专利公开的一种高硬度高耐磨釉料的制作方法，这些方法的共同点是采用“步骤A:淋/喷装饰底釉→步骤B:喷印装饰图案→步骤C:施透明釉→步骤D:进行干燥或不干燥→步骤E:进行烧制→步骤F:进行抛光”的生产工艺，其技术方案主要围绕透明釉配方进行研究，通过在釉料配方中加入刚玉等耐磨高硬度材料或促使釉层表面析出晶体两种方式来改善全抛釉陶瓷砖的表面硬度，这其中又以表面析晶为主，加入耐磨高硬度材料为辅，这些技术的应用可以促进釉层表面析出硬度高的晶体，加上表面应力的作用对釉面抛光前的硬度有明显提升，但也有局限，会带来相应的问题。

1、图案清晰度较差,受透明度影响大。通过釉层表面析晶辅以加入耐磨高硬度材料来提高釉层的硬度，会降低釉层的透明度使装饰图案清晰度变差且产品颜色越深影响越大。原因釉面要析晶釉层要有足够的厚度，而所析晶体的折射率普遍较高(在1.5以上)，所以通过表面析晶的方式会明显影响产品的透明度，加入耐磨高硬度材料提高硬度时又必须有一定量的剩余残留在釉层中，这类物质如刚玉等虽然硬度高但对釉面透明度影响同样非常大。

2、稳定性差。通过表面析晶辅以加入耐磨高硬度材料来提高釉层的硬度，为了减少对釉面透明度的影响，需要严格控制析晶的粗细和数量，数量过多晶体过粗影响透明度，数量少晶体过细抛后硬度下降幅度大，所以现全抛釉生产技术适应范围窄，产品的硬度和耐磨性能不容易稳定。

3、抛后硬度下降幅度大。用传统工艺通过表面析晶的方式提高全抛釉的耐磨和硬度，抛后硬度明显下降，测维氏硬度值比抛前低100以上(HV0.5)。

4、影响瓷砖平整度。该类型的釉料膨胀系数都偏小，釉层在加厚以后容易造成瓷砖凸变形增大，加大了生产控制难度。

5、成本增加。由于釉层要厚，施釉量随之也增大，相应的生产成本也会升高。

发明内容

本发明的目的是提供一种通过复合应用技术，解决了现有全抛釉瓷砖耐磨等级较低、透明度较差等问题，制造高透明微晶釉与耐磨透明釉配方和微晶耐磨全抛釉瓷砖。本发明的另一目的是提供一种解决现有技术的透明度不佳、适用范围窄、生产控制难度大、成本高且不适于开发深色系产品问题的高透明度微晶耐磨全抛釉瓷砖的制备方法。

本发明的第一技术解决方案是所述透明微晶釉，其特殊之处在于，所述透明微晶釉按重量份由以下组份组成：烧氧化锌4～7份；碳酸钡3～8份；钾长石15～22份；钠长石6～12份；氧化铝5～12份；方解石12～20份；石英粉2～6份；白云石4～8份；高岭土7～15份；煅烧高岭土9～15份；硅灰石3～8份；氟化钙1～3份；钛白粉1～3份；刚玉粉0～5份。