[发明专利]一种反光背胶膜的制备方法

权利要求书

1.一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1: 取一光学薄膜，在光学薄膜上植入反光关键元器件，得到反光原膜；

S2：在反光原膜的非反光面上设置一层保护层，得到反光半成品膜；

S3: 取一初始离型衬底，将胶水均匀涂布在所述初始离型衬底上，胶水凝固后，更换初始离型衬底，得到胶膜层；

S4：将胶膜层与反光半成品膜复合，得到反光膜；

步骤S3中所述更换初始离型衬底的具体步骤为：

在胶水的另一面重新复合一持续离型衬底,剥离所述初始离型衬底；或

在胶水的另一面复合另一持续离型衬底，经UV灯光照射凝固后，剥离掉初始离型衬底或者持续离型衬底；

所述初始离型衬底、所述持续离型衬底均具有硅油层。

2.根据权利要求1所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，所述S1的具体步骤为：取一光学薄膜，在光学薄膜上经热转移、热压或UV光固化植入反光关键元器件，得到反光原膜。

3.根据权利要求1或2所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，所述反光关键元器件选自玻璃微珠或微棱镜。

4.根据权利要求1所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，所述S2的具体步骤为：在反光原膜的非反光面上蒸镀金属保护层，得到反光蒸镀半成品膜。

5.根据权利要求1所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，所述S2的具体步骤为：反光原膜的非反光面与压花层经超声高频封装空气囊层复合或者是经凹版热合封装空气囊层复合，得到反光封装半成品膜。

6.根据权利要求5所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，压花层选自压花膜或者压花胶中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，所述光学薄膜选自PET、PC、PMMA、PVC、EVA、TPU中的任意一种或多种。

8.根据权利要求1所述的一种反光背胶膜的制备方法，其特征在于，所述初始离型衬底的硅油层为轻剥离硅油层，所述轻剥离的剥离力≦10g，所述持续离型衬底的硅油层为重剥离硅油层，所述重剥离的剥离力在33～45g。