[发明专利]一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法

说明书

本发明涉及显示器件技术领域，尤其为一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，包括如下步骤，第一步：光阻涂覆，涂覆第一光阻层PR1和第二光阻层PR2；第二步：UV曝光，对第一光阻层PR1进行曝光处理；第三步：光阻显影，对第一光阻层PR1和第二光阻层PR2进行显影处理；第四步：干蚀刻调节，将显影完成后的基板整体放置于干蚀刻的腔盆中；本发明具备可以使光阻剥膜液与光阻进行很好接触，且缩短去除光阻工艺消耗的时间的优点，解决了现有的显示器件蒸镀后易导致光阻剥膜液不能很好的与光阻相接触，从而影响光阻去除，此种现象会使OLED黄光制程过程中去除光阻工艺消耗的时间过长，甚至导致光阻无法顺利去除，从而影响后续制程的问题。

技术领域

本发明涉及显示器件技术领域，具体为一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法。

背景技术

RGB色彩模式是工业界的一种颜色标准，是通过对红(R)、绿(G)、蓝(B)三个颜色通道的变化以及它们相互之间的叠加来得到各式各样的颜色的，RGB即是代表红、绿、蓝三个通道的颜色，这个标准几乎包括了人类视力所能感知的所有颜色，是运用最广的颜色系统之一。

在蒸镀后，需要对其进行光阻层，由于光阻层表面均匀覆盖了一层200-400nmOLED功能层，导致光阻剥膜液不能很好的与光阻相接触，从而影响光阻去除，此种现象会使OLED黄光制程过程中去除光阻工艺消耗的时间过长，甚至导致光阻无法顺利去除，从而影响后续制程，最终使OLED显示器件产生像素点缺色形成黑点，为此，我们提出了一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，来解决上述内容存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，具备可以使光阻剥膜液与光阻进行很好接触，且缩短去除光阻工艺消耗的时间的优点，解决了现有的显示器件蒸镀后易导致光阻剥膜液不能很好的与光阻相接触，从而影响光阻去除，此种现象会使OLED黄光制程过程中去除光阻工艺消耗的时间过长，甚至导致光阻无法顺利去除，从而影响后续制程的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，包括如下步骤，

第一步：光阻涂覆，涂覆第一光阻层PR1和第二光阻层PR2；

第二步：UV曝光，对第一光阻层PR1进行曝光处理；

第三步：光阻显影，对第一光阻层PR1和第二光阻层PR2进行显影处理；

第四步：干蚀刻调节，将显影完成后的基板整体放置于干蚀刻的腔盆中，且腔盆中有上电极和下电极；

第五步：蒸镀OLED功能层，利用蒸镀红光、蒸镀绿光和蒸镀蓝光蒸镀OLED；

第六步：去除光阻层，在红绿蓝像素点定义区开孔并形成类锥形结构。

优选的，所述第一步中，第一光阻层PR1和第二光阻层PR2的感光波段相同，显影液相同。

优选的，所述第一步中，第一光阻层PR1更致密可抗击干蚀刻，第二光阻层PR2则相反。

优选的，所述第二步中，曝光宽度A大于ITO阳极区域。

优选的，所述第三步中，利用光阻剥膜液对第一光阻层PR1和第二光阻层PR2进行光阻显影。

优选的，所述第四步中，采用基板放置法线与上下法线成一定的角度θ，并且以基板中心为轴作一定速率的旋转。

优选的，所述第四步中，第二光阻层PR2将形成与基板法线成θ的锥形。

优选的，所述第五步中，当蒸镀OLED各功能层时，由于其特殊的开孔形状，致使OLED功能层在光阻开孔边沿区域形成不连续薄膜。