[发明专利]一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法

权利要求书

1.一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：包括如下步骤，

第一步：光阻涂覆，涂覆第一光阻层(PR1)和第二光阻层(PR2)；

第二步：UV曝光，对第一光阻层(PR1)进行曝光处理；

第三步：光阻显影，对第一光阻层(PR1)和第二光阻层(PR2)进行显影处理；

第四步：干蚀刻调节，将显影完成后的基板整体放置于干蚀刻的腔盆中，且腔盆中有上电极和下电极，采用基板放置法线与上下法线成一定的角度θ，并且以基板中心为轴作一定速率的旋转，第二光阻层(PR2)将形成与基板法线成θ的锥形；

第五步：蒸镀OLED功能层，利用蒸镀红光、蒸镀绿光和蒸镀蓝光蒸镀OLED；

第六步：去除光阻层，在红绿蓝像素点定义区开孔并形成类锥形结构。

2.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：所述第一步中，第一光阻层(PR1)和第二光阻层(PR2)的感光波段相同，显影液相同。

3.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：所述第一步中，第一光阻层(PR1)更致密可抗击干蚀刻，第二光阻层(PR2)则相反。

4.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：所述第二步中，曝光宽度A大于ITO阳极区域。

5.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：所述第三步中，利用光阻剥膜液对第一光阻层(PR1)和第二光阻层(PR2)进行光阻显影。

6.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：所述第五步中，当蒸镀OLED各功能层时，由于其特殊的开孔形状，致使OLED功能层在光阻开孔边沿区域形成不连续薄膜。

7.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：所述第六步中，用剥膜液进行去除第二光阻层(PR2)的工艺时，剥膜液可以顺利在OLED功能层未覆盖截面与第二光阻层(PR2)相接触，从而达到去光阻的目的。

8.根据权利要求1所述的一种解决OLED制程中蒸镀RGB后光阻不易剥离的方法，其特征在于：包括如下步骤，

在基板的表面涂覆第一光阻层(PR1)和第二光阻层(PR2)，使曝光愿通过A处进行曝光，随后对光阻层进行显影处理，随后将基板移至干蚀刻的盆腔中，并对基板的倾斜角度进行调节，使基板放置法线与上下极法线成一定的角度θ，并以基板中心为轴作一定速率的旋转，在红绿蓝像素点定义区开孔并形成类锥结构，当蒸镀OLED各功能层时，由于其特殊的开孔形状，致使OLED功能层在光阻开孔边沿区域形成不连续薄膜，当用剥膜液进行去除第二光阻层(PR2)的工艺时，剥膜液可以顺利在OLED功能层未覆盖截面与第二光阻层(PR2)相接触，从而达到去除光阻的目的，红绿蓝三色在制备过程中均需要采用这种方式。