[发明专利]材料生长速率测量方法有效

专利信息
申请号: 202010482034.4 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN111653324B 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 金鹏;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G16C60/00 分类号: G16C60/00;G06F17/15;G06F17/13;C23C14/54;C23C16/52
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 材料 生长 速率 测量方法
【权利要求书】:

1.一种材料生长速率测量方法,包括:

步骤1,制备n个样品,其中,n≥2;所述样品同一周期中的两层材料分别为材料AC和材料AwB1-wC,材料AwB1-wC中组分材料包括材料AC和材料BC,材料AC和材料AwB1-wC具有共同的组成材料AC;

步骤2,采用X射线衍射或透射电子显微镜测量材料AC和材料AwB1-wC组成的量子阱或超晶格的周期di,其中,i=1,2,…,n;

步骤3,构建函数,计算材料AwB1-wC、材料AC和材料BC的生长速率;

其中,所述步骤3包括:

子步骤31,假定材料AC和材料BC的生长速率分别由A和B的束流决定,则材料AC和材料BC生长速率为:

μAC=afA(1.1)μBC=bfB(1.2)

其中,fA和fB分别为原子束或分子束A和B的束流;a和b分别为材料AC和材料BC的生长速率μAC和μBC与束流fA和fB之间的比例系数;

则材料AwB1-wC的生长速率为:

μABC=afA+bfB(1.3)

子步骤32,步骤2中n个样品中量子阱或超晶格的周期di

di=μACt1iABCt2i(1.4)

其中,t1i为材料AC的生长时间,t2i为材料AwB1-wC的生长时间,生长时间t1i和t2i为材料生长的参数;

将式(1.1)和(1.3)带入到(1.4)中,得

di=afA(t1i+t2i)+bfBt2i(1.5)

xi=fA(t1i+t2i)(1.6)

yi=fBt2i(1.7)

式(1.5)可写为

di=axi+byi(1.8)

子步骤33,构建函数

求得比例系数a、b;

将比例系数a、b代入(1.1)至(1.3),得到材料AC的生长速率μAC、材料BC的生长速率μBC和材料AwB1-wC的生长速率μABC

所述子步骤33包括:

子分步骤331,分别对(1.9)做a和b的偏微分,并使其等于0,得到

整理得

子分步骤332,解(1.11)方程,得

子分步骤333,实验标准差为

子分步骤334,将式(1.12)代入到式(1.1)-(1.3)中,得到材料AC的生长速率μAC、材料BC的生长速率μBC和材料AwB1-wC的生长速率μABC

2.根据权利要求1所述的材料生长速率测量方法,其中,所述样品的重复周期个数至少为2个。

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