[发明专利]材料生长速率测量方法有效
申请号: | 202010482034.4 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN111653324B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 金鹏;王占国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | G16C60/00 | 分类号: | G16C60/00;G06F17/15;G06F17/13;C23C14/54;C23C16/52 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 材料 生长 速率 测量方法 | ||
1.一种材料生长速率测量方法,包括:
步骤1,制备n个样品,其中,n≥2;所述样品同一周期中的两层材料分别为材料AC和材料AwB1-wC,材料AwB1-wC中组分材料包括材料AC和材料BC,材料AC和材料AwB1-wC具有共同的组成材料AC;
步骤2,采用X射线衍射或透射电子显微镜测量材料AC和材料AwB1-wC组成的量子阱或超晶格的周期di,其中,i=1,2,…,n;
步骤3,构建函数,计算材料AwB1-wC、材料AC和材料BC的生长速率;
其中,所述步骤3包括:
子步骤31,假定材料AC和材料BC的生长速率分别由A和B的束流决定,则材料AC和材料BC生长速率为:
μAC=afA(1.1)μBC=bfB(1.2)
其中,fA和fB分别为原子束或分子束A和B的束流;a和b分别为材料AC和材料BC的生长速率μAC和μBC与束流fA和fB之间的比例系数;
则材料AwB1-wC的生长速率为:
μABC=afA+bfB(1.3)
子步骤32,步骤2中n个样品中量子阱或超晶格的周期di为
di=μACt1i+μABCt2i(1.4)
其中,t1i为材料AC的生长时间,t2i为材料AwB1-wC的生长时间,生长时间t1i和t2i为材料生长的参数;
将式(1.1)和(1.3)带入到(1.4)中,得
di=afA(t1i+t2i)+bfBt2i(1.5)
令
xi=fA(t1i+t2i)(1.6)
yi=fBt2i(1.7)
式(1.5)可写为
di=axi+byi(1.8)
子步骤33,构建函数
求得比例系数a、b;
将比例系数a、b代入(1.1)至(1.3),得到材料AC的生长速率μAC、材料BC的生长速率μBC和材料AwB1-wC的生长速率μABC;
所述子步骤33包括:
子分步骤331,分别对(1.9)做a和b的偏微分,并使其等于0,得到
整理得
子分步骤332,解(1.11)方程,得
子分步骤333,实验标准差为
子分步骤334,将式(1.12)代入到式(1.1)-(1.3)中,得到材料AC的生长速率μAC、材料BC的生长速率μBC和材料AwB1-wC的生长速率μABC为
2.根据权利要求1所述的材料生长速率测量方法,其中,所述样品的重复周期个数至少为2个。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010482034.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。