[发明专利]一种AlTiN/TiAlSiN梯度纳米复合结构涂层及其一体化制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 202010478766.6 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN111500998A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 匡同春;刘备;邹高鹏;王桓;王毅;雷淑梅;周克崧;曾德长 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;冯振宁
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 altin tialsin 梯度 纳米 复合 结构 涂层 及其 一体化 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种AlTiN/TiAlSiN梯度纳米复合结构涂层,其特征在于,该涂层由上至下包括基体、AlTiN过渡层、AlTiN/TiAlSiN支撑层和TiAlSiN功能层。

2.根据权利要求1所述的一种AlTiN/TiAlSiN梯度纳米复合结构涂层,其特征在于,所述AlTiN过渡层的厚度为0.5~2μm,所述AlTiN/TiAlSiN支撑层的厚度为1~4μm,所述TiAlSiN功能层的厚度为0.15~2μm。

3.根据权利要求1所述的一种AlTiN/TiAlSiN梯度纳米复合结构涂层,其特征在于,所述AlTiN/TiAlSiN支撑层的调制周期为40~60nm,调制比为20:1~25:1。

4.权利要求1-3任一项所述的一种AlTiN/TiAlSiN梯度纳米复合结构涂层的一体化制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)AlTiN过渡层:将抛光清洗好的样品送入腔室,经抽真空、红外加热、离子刻蚀后,向腔室内通入高纯N2,同时保持腔室内加热器温度恒定,基体加负偏压,沉积AlTiN过渡层;

(2)AlTiN/TiAlSiN支撑层:完成步骤(1)后,向腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar,同时保持腔室内加热管温度恒定,基体加负偏压,开启溅射靶,保持电弧靶和溅射靶同时工作,沉积AlTiN/TiAlSiN支撑层;

(3)TiAlSiN功能层:完成步骤(2)后,关闭电弧靶,维持溅射靶工作,向腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar,同时保持腔室内加热管温度恒定,基体加负偏压,沉积TiAlSiN功能层;完成后真空冷却至室温,打开腔室,取出工件。

5.根据权利要求4所述的一体化制备方法,其特征在于,步骤(1)中,AlTiN过渡层由电弧离子镀技术制备,所用电弧靶材为AlTi靶,工作电流为100~150A,基体偏压为-20~-80V,工件架的转速为2~4rpm,腔室温度为400~550℃,氮气流量为150~250sccm,维持腔室气压在2~6Pa,沉积时间为15~40min。

6.根据权利要求4所述的一体化制备方法,其特征在于,步骤(2)中,AlTiN/TiAlSiN支撑层由电弧-高功率脉冲磁控溅射溅射混合技术制备,所用溅射靶材为TiAlSi靶,高功率脉冲电源功率设置为2~4kW,频率为500~1000Hz,占空比为5~15%,工件架转速调至2~4rpm,基体偏压调至-60~-90V,通入氩气流量为60~100sccm,氮气流量为100~200sccm,腔室气压设置为2~6Pa,腔室内温度维持在500~600℃,电弧靶参数和步骤(1)相同,沉积时间为30~90min。

7.根据权利要求4所述的一体化制备方法,其特征在于,步骤(3)中,TiAlSiN功能层由高功率脉冲磁控溅射技术制备,靶材和高功率脉冲电源参数与步骤(2)相同,将基体偏压调至-150~-250V,腔室通入80~120sccm氩气和20~50sccm氮气,沉积时间为30~90min。

8.根据权利要求5或6所述的一体化制备方法,其特征在于,步骤(1)和步骤(2)中所述的AlTi靶的各元素原子百分比为Al:40~70at.%,Ti:40~70at.%。

9.根据权利要求6或7所述的一体化制备方法,其特征在于,步骤(2)和步骤(3)中所述TiAlSi合金靶各元素原子百分比为Ti:40~70at.%,Al:40~70at.%,Si:5~15at.%。

10.权利要求1-3任一项所述的一种AlTiN/TiAlSiN梯度纳米复合结构涂层在切削刀具、发动机叶片、工模具制造中的应用。

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