[发明专利]青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料及其制备与应用

权利要求书

1.一种青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料，其特征在于，所述复合材料包括：超薄水滑石纳米片，以及负载于其上的青蒿素或被聚合物保护的青蒿素和吲哚菁绿。

2.根据权利要求1所述的青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料，其特征在于，所述聚合物包括聚乙烯醇树脂，MW:16000-20000；聚乳酸，MW:30000-50000；壳聚糖，MW:10000-50000；纤维素，MW:50000-100000；聚羟基丁酸酯，MW:10000-50000；聚乙二醇，MW:400-2000；或者聚羟基乙酸，MW:10000-20000。

3.根据权利要求1所述的青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料，其特征在于，所述青蒿素与吲哚菁绿在超薄水滑石纳米片上的负载量为5～25％；

所述青蒿素与吲哚菁绿的质量比为0.25～4。

4.根据权利要求1所述的青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料，其特征在于，所述超薄水滑石纳米片的尺寸为50-100nm，厚度为1-2nm，为层状双金属氢氧化物，其化学组成表示为[M^Ⅱ_1-x M^Ⅲ_x(OH)₂]A^n-_z/n·yH₂O；

其中，M^Ⅱ、M^Ⅲ分别为带正电的二价金属离子与三价金属离子，M^Ⅱ为Mg²⁺、Fe²⁺、Zn²⁺、Mn²⁺、Co²⁺中的一种，M^Ⅲ为Al³⁺、Fe³⁺、Cr³⁺中的一种；

x为M^Ⅱ/(M^Ⅱ+M^Ⅲ)的摩尔比，范围为1/3～1/4；

y为结晶水的数量，范围为0～10；

A^n-为层间的阴离子，为NO₃^-。

5.一种权利要求1-4任一项所述青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)将金属硝酸盐溶液与含甲酰胺的硝酸钠溶液混合均匀，用氢氧化钠溶液调节pH至8～10；在一定温度下反应1-60min后，所得浆液离心，沉淀洗涤干燥后，溶于去离子水中得到超薄水滑石纳米片胶体溶液；

2)向步骤1)所得的超薄水滑石纳米片胶体溶液中依次加入吲哚菁绿溶液和青蒿素溶液或聚合物保护的青蒿素溶液，在惰性气体下于避光反应1-12h后，所得浆液离心，沉淀洗涤后分散到水中得到所述青蒿素吲哚菁绿/超薄水滑石纳米片复合材料。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，所述金属硝酸盐溶液中包括二价金属硝酸盐和三价金属硝酸盐；

所述二价金属硝酸盐选自硝酸镁、硝酸亚铁、硝酸锌、硝酸锰或硝酸钴中的一种，所述三价金属硝酸盐选自硝酸铁、硝酸铝或硝酸铬中的一种。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述金属硝酸盐溶液的质量浓度为1～2.5％，溶剂为水；

所述含甲酰胺的硝酸钠溶液中，硝酸钠的质量浓度为0.05～0.15％，甲酰胺的质量浓度为20-25％，溶剂为水；

所述氢氧化钠溶液的质量浓度为1～2％，溶剂为水；

优选地，所述二价金属硝酸盐、三价金属硝酸盐和硝酸钠的摩尔比为(1-X)：X：2X，其中X为1/3～1/4。