[发明专利]一种聚氨酯丙烯酸酯类真空电镀底漆用低聚物、其制备方法及包含它的真空电镀底漆

权利要求书

1.一种聚氨酯丙烯酸酯类真空电镀底漆用低聚物，其特征在于：结构如通式为：

其中，R₁为甲基或氢；

R₂为：

R₃为：

10≤n≤20。

2.权利要求1所述聚氨酯丙烯酸酯类真空电镀底漆用低聚物的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

1)在温度为30-60℃的搅拌下，向二异氰酸酯、阻聚剂和催化剂的混合物中滴加β-羟基化合物，滴加完后，在30-60℃的条件下，反应60-100分钟，得到中间产物A；其中，二异氰酸酯中-NCO与β-羟基化合物中-OH的摩尔比为2:(1±0.2)，阻聚剂的质量用量为二异氰酸酯和β-羟基化合物质量和的0.01-0.15％；催化剂的质量用量为二异氰酸酯和β-羟基化合物质量和的0.01％-0.1％；

2)将多元醇、中间产物A、阻聚剂和催化剂，在温度为40-60℃的条件下，反应55～65分钟，然后升温至60-90℃反应至-NCO的质量含量≤0.2％，得聚氨酯丙烯酸酯类真空电镀底漆用低聚物；其中，多元醇中-OH与中间产物A中-NCO的摩尔比为(1.05～1.2):1，阻聚剂的质量用量为多元醇和中间产物A质量和的0.01-0.15％；催化剂的质量用量为多元醇和中间产物A质量和的0.01％-0.1％。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，β-羟基化合物为丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯或甲基丙烯酸羟丙酯中的至少一种。

4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，二异氰酸酯为甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯中的至少一种。

5.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于：步骤(1)和步骤(2)中，阻聚剂均为对苯二酚、对羟基苯甲醚、2-叔丁基对苯二酚或2,5-二叔丁基对苯二酚中的至少一种；催化剂均为草酸亚锡、二月桂酸丁基锡、单丁基锡或辛酸亚锡中的至少一种。

6.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，多元醇为聚酯二元醇；步骤2)中，升温至60-90℃后的反应时间为115～125分钟。

7.一种真空电镀底漆，其特征在于：其原料组分包括：

所述份数为质量份数，光固化树脂为环氧丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯中的至少一种；光引发剂为光引发剂184和光引发剂1173质量比为(0～3)：(2～5)的混合物。

8.根据权利要求7所述真空电镀底漆，其特征在于：光固化树脂为环氧丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯质量比为(1.5～2)：1的混合物。

9.根据权利要求7或8所述真空电镀底漆，其特征在于：活性稀释剂为丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或双季戊四醇六丙烯酸酯中的至少一种；溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、醇酸丁酯或甲苯中的至少一种。

10.根据权利要求9所述真空电镀底漆，其特征在于：活性稀释剂为丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯质量比为(0.5～2)：1的混合物；溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯和甲苯质量比为(0.4～1.8)：(0.2～1.2):1的混合物。