[发明专利]一种基于氧杂芳环类光催化剂的高活性自由基聚合体系

权利要求书

1.一种基于氧杂芳环类光催化剂的高活性自由基聚合体系，其特征在于：该聚合体系包括单体、光催化剂和引发剂；所述光催化剂为二氧杂蒽嵌蒽类化合物，引发剂为有机卤化物或硫化物；所述光催化剂结构如式I所示：

式I中，

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₁’、R₂’、R₃’、R₄’、和R₅’独立地选自氢、卤素、氰基、C₁～C₂₄烷基、被一个或多个卤素取代的C₁～C₂₄烷基、C₁～C₂₄烷氧基、C₁～C₂₄烷基O(C＝O)-、C₁～C₂₄烷基(C＝O)O-、C₁～C₂₄烷基(C＝O)-、C₁～C₂₄烷基(C＝O)NH-、[C₁～C₂₄烷基(C＝O)]₂N-、R^1-1R^1-2R^1-3Si-、被一个或多个R^1-4取代的C₆～C₂₀芳基、或“杂原子选自N、O和S中的一种或多种，杂原子个数为1-3个”的被一个或多个R^1-5取代的含C₂～C₂₀的杂芳基；当取代基为多个时，可相同或不同；

R^1-1、R^1-2和R^1-3独立地为C₁～C₁₈烷基、C₁～C₁₈烷氧基、苯基、或被一个或多个R^1-1-1取代的苯基；当取代基为多个时，可相同或不同；

R^1-4、R^1-5和R^1-1-1独立地为卤素、C₁～C₁₈烷基、被一个或多个卤素取代的C₁～C₁₈烷基、C₁～C₁₈烷氧基、C₁～C₁₈烷基O(C＝O)-、C₁～C₁₈烷基(C＝O)O-、C₁～C₁₈烷基(C＝O)-、C₁～C₁₈烷基(C＝O)NH-、[C₁～C₁₈烷基(C＝O)]₂N-、R^1-4-1R^1-4-2R^1-4-3Si-、C₆～C₁₀芳基；当取代基为多个时，可相同或不同；

R^1-4-1、R^1-4-2和R^1-4-3独立地为C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基、苯基、或被一个或多个R^1-1-1取代的苯基；当取代基为多个时，可相同或不同。