[发明专利]岩盐下伏地层构造上拉假象的校正方法及其应用

权利要求书

1.一种岩盐下伏地层构造上拉假象的校正方法，其特征在于，所述校正方法包括：

选取多个样本岩丘，并获取各所述样本岩丘的厚度时间以及与各所述样本岩丘对应的岩盐下伏地层的上拉时间；

采用线性回归方程的方法，对所述样本岩丘的厚度时间及所述岩盐下伏地层的上拉时间进行拟合，获得校准曲线；

根据所述校准曲线，对各目标岩丘对应的岩盐下伏地层上拉数据进行校正，得到各所述目标岩丘的构造图。

2.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述获取各所述样本岩丘的厚度时间的步骤包括：

选取多个所述样本岩丘，并统计各所述样本岩丘的盐丘顶的厚度时间和盐丘底的厚度时间；

将所述样本岩丘的盐丘顶的厚度时间和盐丘底的厚度时间的差值，作为各所述样本岩丘的厚度时间。

3.根据权利要求1或2所述的校正方法，其特征在于，所述校正步骤包括：

获取各所述目标岩丘的盐丘顶的厚度时间和盐丘底的厚度时间；

计算各所述目标岩丘的厚度时间；

将各所述目标岩丘的厚度时间依次代入所述校准曲线，以分别获取所述目标岩丘对应的岩盐下伏地层的上拉时间的校准数据；

根据所述校准数据，构造校正后的等T₀图；

根据所述校正后的等T₀图，构造各所述目标岩丘的构造图。

4.根据权利要求3所述的校正方法，其特征在于，所述构造各所述目标岩丘的构造图的步骤包括：

根据各所述目标岩丘的厚度时间和对应的层速度的乘积，获得各所述目标岩丘的深度；

根据各所述目标岩丘的深度数据，构建各所述目标岩丘的构造图。

5.根据权利要求4所述的校正方法，其特征在于，在获得各所述目标岩丘的深度数据后，所述构造各所述目标岩丘的构造图的步骤还包括：对各所述目标岩丘进行分层误差统计，当误差≤1％时，根据各所述目标岩丘的深度数据，构建各所述目标岩丘的构造图。

6.根据权利要求4所述的校正方法，其特征在于，在获得各所述目标岩丘的深度数据后，所述得到各所述目标岩丘的构造图还包括：对各所述目标岩丘进行分层误差统计，当误差大于1％时，重新进行所述校准曲线的拟合步骤。

7.权利要求1至6中任一项所述的校正方法在石炭系岩层中的应用。

8.根据权利要求7所述的应用，其特征在于，所述石炭系岩层的埋藏深度＞2000m，岩丘厚度为400～2000m。