[发明专利]一种应用于先进控制系统的线宽控制方法在审
申请号: | 202010425461.9 | 申请日: | 2020-05-19 |
公开(公告)号: | CN111427242A | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 许博闻;李琛;时雪龙;燕燕;李立人 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;马盼 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 先进 控制系统 控制 方法 | ||
1.一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,包括如下步骤:
S01:设置第1次曝光的原始曝光能量Eexp(1),并进行曝光;
S02:第1次曝光完成之后,计算第1次曝光的实际曝光能量El(1)以及预测曝光能量Ep(1),且Ep(1)=E(1)/f(1);
S03:重复步骤S01-S02,设置第x次曝光的原始曝光能量Eexp(x)等于第x-1次曝光的预测曝光能量Ep(x-1),并进行曝光,再计算第x次曝光的实际曝光能量El(x)以及预测曝光能量Ep(x);直至完成整个曝光过程;
其中,实际曝光能量El(x)根据第x次曝光的原始曝光能量以及线宽进行计算;E(x)表示采用平均方法计算出的初始预测曝光能量,f(x)为单调递增的调整公式,f(x)∈(0,1),且随着x的增大,f(x)趋近于1,x为大于0的整数。
2.根据权利要求1所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述步骤S02中实际曝光能量El(x)=[Eexp(x)-Slop×(CDtarget–CDmeasure)]×(SSC0/SSCm);其中,CDtarget和CDmeasure分别为第x次曝光的线宽目标值和线宽测量值,SSC0和SSCm为曝光设备位置传感系数的初始值和测量值,Slop为线宽和曝光能量的转换系数。
3.根据权利要求1所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述调整公式f(x)=1-Qx,Q为调整系数,且Q∈(0,1)。
4.根据权利要求1所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述步骤S02中初始预测曝光能量E(x)=El(x)×(1-K)+Ep(x-1)×K;其中,K为平均系数,K∈(0,1)。
5.根据权利要求4所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述调整公式f(x)=1-Kx。
6.根据权利要求4所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述平均系数K=(1-B)×D,其中,B为权重系数,D为时间系数。
7.根据权利要求6所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述时间系数D=C[t-(t-1)],C(t)=exp(-t/T),T表示整个曝光过程的持续时间,且第x次曝光的时刻为开始曝光之后的第t时刻。
8.根据权利要求1所述的一种应用于先进控制系统的线宽控制方法,其特征在于,所述第一次曝光的原始曝光能量Eexp(1)=0。
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