[发明专利]一种高产率制备量子点的方法及改性反渗透膜的应用有效

专利信息
申请号: 202010415596.7 申请日: 2020-05-16
公开(公告)号: CN111569678B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 董立峰;邵斐斐;于立岩;仪展 申请(专利权)人: 青岛科技大学
主分类号: B01D71/68 分类号: B01D71/68;B01D71/56;B01D69/12;B01D61/02
代理公司: 青岛中天汇智知识产权代理有限公司 37241 代理人: 袁晓玲
地址: 266000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 高产 制备 量子 方法 改性 反渗透 应用
【权利要求书】:

1.一种高产率制备量子点的方法,其特征在于,以量子点为载体在其表面包覆单宁酸自聚合产物,得到产率提高的量子点,量子点载体的制备方法如下:

(1)将80ml的100mg/ml柠檬酸溶液和20ml氨水转移到特氟龙内衬的高压釜中,在180℃下进行12小时的水热反应,得到淡黄色溶液,

(2)淡黄色溶液在去离子水中透析4小时,透析袋型号为3000Da,Spectrum Lab.Inc.,

(3)透析袋内的溶液经10000rpm离心三次,取上清液干燥处理制得粉末N-GQOD,

单宁酸包覆量子点的工艺条件如下:

(1)100mg N-GQOD添加到200ml 100mM,pH=8.5的Tris-buffer缓冲溶液中,

(2)Tris-buffer缓冲溶液配置:12.1gTris加到800ml纯水中溶解,用4M HCl调节pH=8.5,定容1L,验证pH,

(3)200mg单宁酸加入到上述溶液中,常温搅拌反应24h,

(4)所得溶液进行透析处理2d,

(5)35℃真空干燥24h得到白色粉末为单宁酸改性的N-GQOD。

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