[发明专利]利用等离子体的有害气体处理装置和方法

权利要求书

1.一种利用等离子体的有害气体处理装置，其包括：

第一反应单元，其设置在有害气体路径上，用于通过使等离子体反应所产生的等离子体臭氧和有害气体中包含的氨进行第一次反应生成第一去氨物质，以第一次去除有害气体中包含的氨；以及

第二反应单元，其用于通过使所述第一反应单元中生成的第一去氨物质和所述第一反应单元中未反应的氨进行第二次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨。

2.根据权利要求1所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其中，

所述第一反应单元包括：

反应室，其包括所述有害气体路径上有害气体通过的入口和出口，并且包括有害气体和等离子体反应气体的反应空间；

等离子体电极，其设置在所述反应室内部且包括放电空间，用于产生等离子体放电；以及

注入单元，其对应于所述等离子体电极的周围设置在连接所述反应室的内部和所述等离子体反应气体的供应路径的位置上，用于引导等离子体反应气体供应到所述反应室的内部。

3.根据权利要求1所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其中，

所述第一去氨物质包含二氧化氮(NO₂)或二氧化硫(SO₂)中的一种以上。

4.根据权利要求1所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其中，

所述第二去氨物质包含硝酸铵(NH₄NO₃)或硫酸铵((NH₄)₂SO₄)中的一种以上。

5.根据权利要求4所述的利用等离子体的有害气体处理装置，其还包括：

肥料精炼装置，其用于将所述第二去氨物质用水溶解以及接收溶解的所述第二去氨物质进行处理。

6.一种利用等离子体的有害气体处理方法，其包括：

第一去氨步骤，通过使等离子体反应所产生的等离子体臭氧和有害气体中包含的氨进行第一次反应生成第一去氨物质，以第一次去除有害气体中包含的氨；以及

第二去氨步骤，通过使所述第一去氨步骤中生成的第一去氨物质和所述第一去氨步骤中未反应的氨进行第二次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨。

7.根据权利要求6所述的利用等离子体的有害气体处理方法，其中，

所述第一去氨物质包含二氧化氮(NO₂)或二氧化硫(SO₂)中的一种以上。

8.根据权利要求6所述的利用等离子体的有害气体处理方法，其中，

所述第二去氨物质包含硝酸铵(NH₄NO₃)或硫酸铵((NH₄)₂SO₄)中的一种以上。

9.根据权利要求8所述的利用等离子体的有害气体处理方法，其还包括：

溶解步骤，将所述第二去氨步骤中生成的所述第二去氨物质用水溶解后向外排出。

10.根据权利要求9所述的利用等离子体的有害气体处理方法，其还包括：

肥料处理步骤，供应所述溶解步骤中溶解的所述第二去氨物质。