[发明专利]利用等离子体的有害气体处理装置和方法

说明书

本发明实施例旨在提供一种利用等离子体的有害气体处理装置和方法，通过等离子体和氨的反应生成第一去氨物质，以第一次去氨通过使第一去氨物质和氨再次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨，从而可以逐步改善去氨效率。

技术领域

本发明涉及一种利用等离子体的有害气体处理装置和方法。

背景技术

通常，物质的状态分为固体，液体和气体。可以通过向气体施加高能来产生等离子体。等离子体是分离成带负电荷的电子和带正电荷的离子的气体状态，在超高温下通过具有高动能的气体分子的相互碰撞从原子或分子被分离成带负电荷的电子。等离子体可以分为高温等离子体和低温等离子体，高温等离子体是温度高的电弧等，而低温等离子体是电子的能量高，但离子的能量低，因此实际感觉到的温度接近常温。

这种等离子体根据压力条件，其产生技术和应用会不同。例如，在压力低的真空条件下，可以稳定地产生等离子体，因此可以将等离子体应用于半导体工艺或新材料合成工艺中的化学反应、沉积等。另外，大气压状态的等离子体可应用于处理对环境有害的气体或制造新材料。

近来，已经开发出许多技术，以处理工业生产中排放的有害气体。另外，需要开发出易于去除有害气体中包含的氨的技术。

发明内容

技术问题

本发明实施例旨在提供一种利用等离子体的有害气体处理装置和方法，通过等离子体和氨的反应生成第一去氨物质，以第一次去氨,通过使第一去氨物质和氨再次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨，从而可以逐步改善去氨效率。

技术方案

根据本发明实施例的利用等离子体的有害气体处理装置包括：第一反应单元，其设置在有害气体路径上，用于通过使等离子体反应所产生的等离子体臭氧和有害气体中包含的氨进行第一次反应生成第一去氨物质，以第一次去除有害气体中包含的氨；以及第二反应单元，其用于通过使第一反应单元中生成的第一去氨物质和第一反应单元中未反应的氨进行第二次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨。

第一反应单元可包括：反应室，其包括有害气体路径上有害气体通过的入口和出口，并且包括有害气体和等离子体反应气体的反应空间；等离子体电极，其设置在反应室内部且包括放电空间，用于产生等离子体放电；以及注入单元，其对应于等离子体电极的周围设置在连接反应室的内部和等离子体反应气体的供应路径的位置上，用于引导等离子体反应气体供应到反应室的内部。

第一去氨物质可包含二氧化氮或二氧化硫中的一种以上。另外，第二去氨物质可包含硝酸铵或硫酸铵中的一种以上。

利用等离子体的有害气体处理装置还可包括肥料精炼装置，其用于将第二去氨物质用水溶解以及接收溶解的第二去氨物质进行处理。

根据本发明实施例的利用等离子体的有害气体处理方法可包括：第一去氨步骤，通过使等离子体反应所产生的等离子体臭氧和有害气体中包含的氨进行第一次反应生成第一去氨物质，以第一次去除有害气体中包含的氨；以及第二去氨步骤，通过使第一去氨步骤中生成的第一去氨物质和第一去氨步骤中未反应的氨进行第二次反应生成第二去氨物质，以第二次去氨。

利用等离子体的有害气体处理方法还可包括：溶解步骤，将第二去氨步骤中生成的第二去氨物质用水溶解后向外排出。

利用等离子体的有害气体处理方法还可包括：肥料处理步骤，供应溶解步骤中溶解的第二去氨物质。

发明效果

根据本发明实施例，通过等离子体反应第一次去除有害气体中包含的氨，然后使未反应的氨和第一去氨物质再次进行第二次反应，以第二次去氨，从而对有害气体中包含的氨进行双重处理，由此可以提高去氨效率。

附图说明

图1是根据本发明实施例的利用等离子体的有害气体处理装置的示意图。