[发明专利]显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

一基板；

一有机发光器件层，设于所述基板上；

一第一封装层，覆盖所述有机发光器件层；

一第二封装层，设于所述第一封装层远离所述有机发光器件层的一表面上；

其中，所述第一封装层包括：

氧化硅层，设于所述有机发光器件层上；

氮化硅层，设于所述氧化硅层上。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：

一覆盖层，设于所述氧化硅层和所述有机发光器件层之间；

一盖板，设于所述第二封装层远离所述第一封装层的一表面上。

3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机发光器件层包括：

发光层，设于所述基板上；

阴极层，设于所述发光层远离所述基板的一表面上。

4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二封装层包括：

第一胶层，设于所述氮化硅层上，并对应于所述有机发光器件层；

第二胶层，设于所述氮化硅层上，并包围所述第一胶层；

第三胶层，设于所述氮化硅层上，并包围所述第二胶层；

其中，所述第二胶层中具有吸湿剂。

5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述氮化硅层的宽度大于所述氧化硅层的宽度。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基板；

在所述基板上形成有机发光器件层；

在所述有机发光器件层上形成第一封装层；

在所述第一封装层上形成第二封装层；

其中，在所述有机发光器件层上形成第一封装层步骤中包括：

在所述有机发光器件层上沉积一层氧化硅材料，形成氧化硅层；

在所述氧化硅层上沉积一层氮化硅材料，形成氮化硅层。

7.如权利要求6所述的显示面板制备方法，其特征在于，在所述基板上形成有机发光器件层步骤中包括以下步骤：

在所述基板上通过蒸镀法或喷墨打印法形成发光层；

在发光层上通过磁控溅射法或蒸镀法形成阴极层。

8.如权利要求6所述的显示面板制备方法，其特征在于，

在所述基板上形成OLED器件步骤后还包括以下步骤：

在所述OLED器件上通过蒸镀法形成覆盖层；

在所述第一封装层上形成第二封装层步骤前还包括以下步骤：

提供一盖板。

9.如权利要求8所述的显示面板制备方法，其特征在于，在所述第一封装层上形成第二封装层步骤中包括：

在所述盖板上的边缘依次形成第二胶层和第三胶层；

在所述第二胶层远离所述第二胶层的一侧填充胶材，并通过真空压合法将所述胶材贴合在所述第一封装层上；

通过紫外光照射或加热使胶材固化形成第一胶层。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任意一项所述的显示面板。