[发明专利]发光装置的制备方法及发光装置在审

专利信息
申请号: 202010380395.8 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN111524913A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 安徽省徽腾智能交通科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32;G02F1/1368
代理公司: 广州高炬知识产权代理有限公司 44376 代理人: 陈文龙
地址: 234000 安徽省宿*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 发光 装置 制备 方法
【说明书】:

公开了一种发光装置的制备方法及发光装置,制备方法中,加热第二绝缘膜到预定温度后,在其上溅射形成非晶体氧化物半导体膜,在第一导电层、非晶体氧化物半导体膜和第二导电层上溅射形成氧化镓膜,掩模蚀刻氧化镓膜使得在位于非晶体氧化物半导体膜正上方的第二预定区域形成第三绝缘膜,经由第四绝缘膜、源极及漏极对非晶体氧化物半导体膜引入第二掺杂剂形成小于非晶体氧化物半导体膜平均电阻的第一电阻区域,第一电极层上经由感光树脂形成位于第一侧的第一绝缘隔离层和相对于第一侧的第二侧的第二绝缘隔离层,第一倾斜曲面和第二倾斜曲面相向布置,自第一倾斜曲面沿着第一电极层延伸于第二绝缘隔离层的表面上形成电致发光层。

技术领域

发明涉及电致发光技术领域,特别是一种发光装置的制备方法及发光装置。

背景技术

柔性薄膜晶体管广泛地应用于如电致发光显示装置中。为了得到功能更强的显示装置,需要更高的电特性的柔性薄膜晶体管,而现有的柔性薄膜晶体管往往存在着场效应迁移率低的问题,使得高电特性收到限制,现有技术往往采用提高驱动和高速响应信号来提高电特性,而这带来了增加成本、需要额外的部件等不利因素,且其电特性提高区间也极其有限。

在背景技术部分中公开的上述信息仅仅用于增强对本发明背景的理解,因此可能包含不构成在本国中本领域普通技术人员公知的现有技术的信息。

发明内容

鉴于上述问题,本发明提供一种发光装置的制备方法及发光装置,本发明的目的是通过以下技术方案予以实现。

一种发光装置的制备方法包括如下步骤:

提供柔性第一基板,

柔性衬底层叠于所述柔性第一基板上,

在所述柔性衬底上溅射氮氧化铝形成第一绝缘膜,在所述第一绝缘膜的第一预定区域沉积氧化硅以形成第二绝缘膜,

加热所述第二绝缘膜到预定温度后,在其上溅射形成非晶体氧化物半导体膜,

在第一侧的所述第一绝缘膜及其向相对于第一侧的第二侧方向延伸的部分非晶体氧化物半导体膜上表面溅射第一导电层,掩模蚀刻所述第一导电层形成源极,

在第二侧的所述第一绝缘膜及其向相对于第二侧的第一侧方向延伸的部分非晶体氧化物半导体膜上表面溅射第二导电层,掩模蚀刻所述第二导电层形成漏极,

对第一导电层和第二导电层下的非晶体氧化物半导体膜引入第一掺杂剂,

在第一导电层、非晶体氧化物半导体膜和第二导电层上溅射形成氧化镓膜,掩模蚀刻氧化镓膜使得在位于非晶体氧化物半导体膜正上方的第二预定区域形成第三绝缘膜,

在第三绝缘膜上溅射包含氧化钨的铟锌氧化物以形成栅极,

在第一导电层、非晶体氧化物半导体膜、栅极和第二导电层上溅射氧化镧膜形成第四绝缘膜,

经由第四绝缘膜、源极及漏极对非晶体氧化物半导体膜引入第二掺杂剂形成小于非晶体氧化物半导体膜平均电阻的第一电阻区域,在氮氛围下在350℃-400℃加热第一电阻区域一个小时形成薄膜晶体管,

所述薄膜晶体管上层叠用于绝缘的磷硅玻璃层,所述磷硅玻璃层的上表面抛光处理形成水平表面且使得表面粗糙度小于1纳米,

磷硅玻璃层上形成与所述漏极电连接的第一电极层,

第一电极层上经由感光树脂形成位于第一侧的第一绝缘隔离层和相对于第一侧的第二侧的第二绝缘隔离层,所述第一绝缘隔离层包括第一倾斜曲面和第二绝缘隔离层包括第二倾斜曲面,第一倾斜曲面和第二倾斜曲面相向布置,

自第一倾斜曲面沿着第一电极层延伸于第二绝缘隔离层的表面上形成电致发光层,

第二电极层层叠于所述第一隔离绝缘层和电致发光层上,

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